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Problem s4
Le document présente un ensemble de problèmes pour un cours sur la fabrication de semi-conducteurs, axé sur des concepts statistiques tels que les mesures de largeur de ligne et l'analyse de variance (ANOVA). Les problèmes incluent des calculs pour déterminer le nombre d'échantillons nécessaires pour une nouvelle méthode de photoresist, l'analyse des effets de traitement et de bloc, ainsi que la construction de tableaux ANOVA. Les problèmes sont inspirés par des travaux antérieurs et nécessitent des conclusions basées sur des données expérimentales.
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Problem s4
Le document présente un ensemble de problèmes pour un cours sur la fabrication de semi-conducteurs, axé sur des concepts statistiques tels que les mesures de largeur de ligne et l'analyse de variance (ANOVA). Les problèmes incluent des calculs pour déterminer le nombre d'échantillons nécessaires pour une nouvelle méthode de photoresist, l'analyse des effets de traitement et de bloc, ainsi que la construction de tableaux ANOVA. Les problèmes sont inspirés par des travaux antérieurs et nécessitent des conclusions basées sur des données expérimentales.
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6.780
Semiconductor Manufacturing
Spring 2003
Problem Set #4
Issued: Monday, March 3, 2003
Due: Wednesday, March 12, 2003
Problem 1
Working with an excimer laser stepper, you have determined that linewidth measurements and random
variation show a standard deviation of 0.04 im. Using a mask with 0.18 jum lines, the average measured
polysilicon linewidth is 0.20 im, You are contemplating a switch to a different photoresist, hoping it will
give you linewidths closer to the mask pattem. You will be willing to switch to the new resist only if you
see 2 0,02 1m improvement (i.e. your measured pattern goes from 0.20 uum to 0.18 um) with o:=0.05 and
=0.05. How many samples done with the new process do you need for this experiment?
Problem 2
A process engineer determined the following entries in an ANOVA table for some data he collected from
a randomized block design (to guard against differences in the different tools used to conduct the experi-
ment), The treatment averages for the responses were 55, 68, 56, 66, and 55.
source of sum of degrees of mean
F ratio Pr>F
variation squares freedom square
average
blocks 534 2
treatments 498
residual 40
total 1S
(a) Complete the ANOVA table. (Note: it és possible to determine all non-shaded entries.)
(b) Based on the probability of observing the F-ratio for the treatments, does the engineer have evidence
that there is a treatment effect (that is to say, that the treatment as a whole matters)? A block effect?
(c) Construct and describe the relevant reference distribution for the treatment averages, That is to say,
we would like to know how y, is distributed (where the subscript ¢ indicates which treatment was used),
and the parameters of that distribution. Once you know this distribution, you can draw conclusions about
individual treatments (rather than the treatment effect as a whole as in part b). For each of the five treat-
ments, indicate whether or not you believe that specific treatment has an effect.
(d) How should the experiment be conducted to allow valid conclusions to be drawn?Problem 3
Do Problem 3 on pg. 222 of Drain, Show an ANOVA table with your explanations.
Problem 4
Do Problem 4 on pg. 222-223 of Drain. Again show your ANOVA table.
Acknowledgments: Problems are inspired by C. Spanos, and by Box, Hunter, and Hunter. Problems 3
and 4 from D. Drain.