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Couches minces de CuO par spray pyrolyse

Le document traite du développement de couches minces d'oxyde de cuivre (CuO) par spray pyrolyse, en raison de leurs propriétés modulables et de leur potentiel dans diverses applications technologiques. Il souligne l'importance de techniques de caractérisation avancées pour optimiser les propriétés structurelles, optiques et électriques des films obtenus. L'objectif final est de valoriser le CuO comme matériau clé pour les dispositifs optoélectroniques de nouvelle génération.

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Couches minces de CuO par spray pyrolyse

Le document traite du développement de couches minces d'oxyde de cuivre (CuO) par spray pyrolyse, en raison de leurs propriétés modulables et de leur potentiel dans diverses applications technologiques. Il souligne l'importance de techniques de caractérisation avancées pour optimiser les propriétés structurelles, optiques et électriques des films obtenus. L'objectif final est de valoriser le CuO comme matériau clé pour les dispositifs optoélectroniques de nouvelle génération.

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Introduction Générale

Le développement rapide des technologies dans les domaines de l'électronique, de l'énergie


renouvelable et des capteurs intelligents repose en grande partie sur la mise au point de
matériaux fonctionnels aux propriétés bien définies. Parmi ceux-ci, les couches minces
d’oxydes métalliques suscitent un intérêt croissant en raison de leurs caractéristiques
physiques, chimiques et optoélectroniques modulables, rendant possible leur intégration dans
une variété d'applications telles que les cellules solaires, les dispositifs optoélectroniques, les
capteurs de gaz et les transistors.

Dans ce contexte, l’oxyde de cuivre (CuO), un semi-conducteur de type p avec une bande
interdite relativement étroite (environ 1.2 à 2.1 eV), se distingue comme un candidat
prometteur. En plus de son abondance naturelle, sa faible toxicité, son coût réduit et sa
bonne stabilité chimique, le CuO possède des propriétés optiques et électriques qui peuvent
être ajustées par le choix de la méthode d’élaboration et les conditions de dépôt. Ces
caractéristiques en font un matériau intéressant pour les dispositifs photovoltaïques à couches
minces, les capteurs, ainsi que les applications en microélectronique.

Parmi les diverses techniques de dépôt, la spray pyrolyse représente une méthode simple,
économique et bien adaptée à la production de couches minces sur de grandes surfaces. Elle
consiste à pulvériser une solution précurseur sur un substrat chauffé, où une réaction
thermochimique permet la formation du film mince. La qualité des couches formées dépend
fortement de plusieurs paramètres opératoires, tels que la température du substrat, la
concentration des précurseurs, la distance de pulvérisation, et la vitesse de déposition.

Afin de comprendre et d’optimiser les propriétés des couches minces de CuO obtenues par
spray pyrolyse, il est essentiel de recourir à des techniques de caractérisation avancées. Dans
ce travail, plusieurs outils complémentaires sont utilisés :

 La diffraction des rayons X (DRX) pour étudier la structure cristalline et la taille


des cristallites ;

 La photoluminescence (PL) pour explorer les propriétés optiques, notamment les


transitions électroniques et la présence de défauts ;
 L’effet Hall pour déterminer les propriétés électriques, telles que le type de porteurs
majoritaires, leur mobilité et leur concentration ;

 La microscopie à force atomique (AFM) pour analyser la morphologie de surface


et la rugosité des films.

Ce mémoire a pour objectif de maîtriser les conditions d’élaboration des couches minces de
CuO par spray pyrolyse, et d’étudier l’impact des paramètres de dépôt sur leurs propriétés
structurelles, optiques, électriques et morphologiques. Ce travail s’inscrit dans une démarche
de recherche appliquée, visant à valoriser le CuO comme matériau clé dans les dispositifs
optoélectroniques de nouvelle génération.

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