‫اﻟﺠﻤﮭﻮرﯾﺔ اﻟﺠﺰاﺋﺮﯾﺔ اﻟﺪﯾﻤﻘﺮاﻃﯿﺔ اﻟﺸﻌﺒﯿﺔ‬

République Algérienne Démocratique et Populaire

‫وزارة اﻟﺘﻌﻠﯿﻢ اﻟﻌﺎﻟﻲ واﻟﺒﺤﺚ اﻟﻌﻠﻤﻲ‬
Ministère de l’enseignement Supérieur et de la recherche scientifique

Université Mohamed Khider Biskra

Faculté des sciences et de la Technologie
Département de Génie Electrique
Filière : Electronique
Option : Microélectronique et hyperfréquence
Réf:…………

Mémoire de Fin d'Etudes

En vue d'obtention de diplôme:

Master

Etude par simulation numérique d'une cellule solaire à

homojonction (GaAs) et à hétérojonction
(Ga0.3Al0.7As/GaAs) par le logiciel TCAD-SILVACO

Présenté par :
BEZZIOU FATMA
Soutenu le : juin 2013

Devant le jury composé de :

 Belgacem Hocine MCB Président
 Tobbeche Souad MCA Encadreur
 Megarbi Mohamed Larbi MAA Examinateur

Annés universitaire : 2012/2013

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République Algérienne Démocratique et Populaire
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Faculté des sciences et de la Technologie
Département de Génie Electrique
Filière : Electronique
Option : Microélectronique et hyperfréquence

Mémoire de Fin d'Etudes

En vue d'optention de diplôme:

Master

Etude par simulation numérique d'une cellule solaire à

homojonction (GaAs) et à hétérojonction
(Ga0.3Al0.7As/GaAs) par le logiciel TCAD-SILVACO

Présenté par : Avis favorable de l’encadreur :

Bezziou Fatma

Avis favorable du président du Jury

Belgacem Hocine

Cachet et signature
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Faculté des sciences et de la Technologie
Département de Génie Electrique
Filière : Electronique
Option : Microélectronique et hyperfréquence

Etude par simulation numérique d'une cellule solaire à

homojonction (GaAs) et à hétérojonction (Ga0.3Al0.7As/GaAs)
par le logiciel TCAD-SILVACO

Proposé par : Dr .Tobbeche Souad

Dirigé par : Dr. Tobbeche Souad
Résumé
Nous avons étudié par simulation numérique à l’aide du simulateur Atlas-Silvaco une
cellule solaire à base de GaAs de structure p-n-n+ avec une couche fenêtre Al0.7Ga0.3As de
type p+. D’après la comparaison faite entre deux cellules, l’une sans couche fenêtre et
l’autre avec une couche fenêtre en Al0.7Ga0.3As, nous avons trouvé que cette couche
améliore le rendement de conversion, il est passé de 6,47 % dans une cellule sans couche
fenêtre à 13.46% pour une cellule avec une couche fenêtre en Al0.7Ga0.3As. Les autres
paramètres photovoltaique simulés sont : la tension en circuit ouvert (Vco) de 0.94 V, la
densité du courant de court-circuit (Jcc) de 22.30 mA/cm² et le facteur de forme (FF) de
86.81%. L’étude de l’influence des différentes couches de la cellule solaire engendre une
meilleure structure ayant une couche fenêtre mince d’épaisseur 0.1 nm et un dopage égal à
1017cm-3.  calculé est de 16.49% et les autres paramètres photovoltaique simulés : Vco est
de 0.98 V, Jcc est de 25.90 mA/cm² et FF est de 86.98%.

‫ﻣﻠﺨﺺ‬
(p+) ‫ ﻣﻦ ﻧﻮع‬Al0.7Ga0.3As ‫( ﻣﻊ ﻃﺒﻘﺔ ﻋﻠﻮﯾﺔ )ﻧﺎﻓﺬة( ﻣﻦ‬p-n-n+) ‫ ذات اﻟﺒﻨﯿﺔ‬GaAs ‫ﻗﻤﻨﺎ ﺑﺪراﺳﺔ ﺧﻠﯿﺔ ﺷﻤﺴﯿﺔ ﻣﻦ‬
‫ ﺑﻌﺪ اﻟﻤﻘﺎرﻧﺔ اﻟﻤﻄﺒﻘﺔ ﺑﯿﻦ ﺧﻠﯿﺔ ﺑﺪون ﻧﺎﻓﺬة وأﺧﺮى ذات‬.Atlas-Silvaco ‫ﺑﻮاﺳﻄﺔ اﻟﻤﺤﺎﻛﺎة اﻟﺮﻗﻤﯿﺔ ﺑﺎﺳﺘﺨﺪام اﻟﺒﺮﻧﺎﻣﺞ‬
‫ ﻓﻲ اﻟﺨﻠﯿﺔ اﻟﺘﻲ ﺑﺪون‬% 6.47 ‫ ﺣﯿﺚ ﺗﻐﯿﺮ ﻣﻦ‬،‫ وﺟﺪﻧﺎ أن ھﺬه اﻟﻨﺎﻓﺬة ﺗﺤﺴﻦ ﻣﺮدود اﻟﺘﺤﻮﯾﻞ‬، Al0.7Ga0.3A ‫ﻧﺎﻓﺬة ﻣﻦ‬
‫ اﻟﺜﻮاﺑﺖ اﻟﻜﮭﺮوﺿﻮﺋﯿﺔ اﻷﺧﺮى اﻟﻤﺘﺤﺼﻞ ﻋﻠﯿﮭﺎ ھﻲ‬. Al0.7Ga0.3As ‫ ﻣﻦ أﺟﻞ ﺧﻠﯿﺔ ذات ﻧﺎﻓﺬة ﻣﻦ‬% 13.46 ‫ﻧﺎﻓﺬة إﻟﻰ‬
‫ دراﺳﺔ‬.% 86.81 ‫ وﻣﻌﺎﻣﻞ اﻟﺸﻜﻞ‬2‫ ﺳﻢ‬/ ‫ ﻣﻠﻲ آ‬22.30 ‫ ﻛﺜﺎﻓﺔ ﺗﯿﺎر اﻟﺪارة اﻟﻤﻘﺼﻮرة‬،‫ ف‬0,94 ‫ ﺟﮭﺪ اﻟﺪارة اﻟﻤﻔﺘﻮﺣﺔ‬:
‫ﺗﺄﺛﯿﺮ ﻣﺨﺘﻠﻒ ﻃﺒﻘﺎت اﻟﺨﻠﯿﺔ اﻟﺸﻤﺴﯿﺔ ﺳﻤﺢ ﺑﺎﺳﺘﺨﻼص اﻟﮭﯿﻜﻞ اﻷﻣﺜﻞ ﻟﻠﺨﻠﯿﺔ اﻟﺬي ﯾﻤﻠﻚ ﻃﺒﻘﺔ ﻋﻠﻮﯾﺔ )ﻧﺎﻓﺬة( رﻗﯿﻘﺔ ذات‬
‫ واﻟﻤﺘﻐﯿﺮات اﻟﻜﮭﺮوﺿﻮﺋﯿﺔ‬،% 16.49 ‫ ﻣﺮدود اﻟﺘﺤﻮﯾﻞ اﻟﻤﺤﺴﻮب ھﻮ‬.3-‫ ﺳﻢ‬1017 ‫ ﻧﺎﻧﻮﻣﺘﺮ و اﻟﺘﻄﻌﯿﻢ‬0.1 ‫اﻟﺴﻤﻚ‬
‫ وﻣﻌﺎﻣﻞ اﻟﺸﻜﻞ‬2‫ ﺳﻢ‬/ ‫ ﻣﻠﻲ آ‬25.90 ‫ ﻛﺜﺎﻓﺔ ﺗﯿﺎر اﻟﺪارة اﻟﻤﻘﺼﻮرة‬،‫ ف‬0.98 ‫ ﺟﮭﺪ اﻟﺪارة اﻟﻤﻔﺘﻮﺣﺔ‬: ‫اﻷﺧﺮى ھﻲ‬
.% 86.98
 Dédicaces

Avec toute sincérité et modestie,

Je dédie ce travail à :

 Mes parents : mon père Mehamed et ma mère Aicha aussi ma

belle-mère qui m’ont beaucoup soutenue pendant toute ma vie.

 Mes sœurs : Hanane, Nacima, Souad, Zebida, Amel,

Nadjet, Houta, Kanza, poussine Titah et mes frères Abd

naccer, Elbey .Arbi, Taher, [Link], [Link],

[Link]

 Ma famille et mon oncle Alawa.

 Ma chère Hayette qui a une place particulière dans mon cœur.

 Tous mes amis surtout, Tounes, Afaf, Malika, Nada, et tous

mes collèges du département du Mécro - Electronique.

 Toute personne qui m’a aidé durant toute la période de mes études.

Bezziou Fatma
 REMERCIEMENT

Tout d’abord, je remercie Allah le tout puissant

qui m’ a donné la force, la santé et la volanté pour

réaliser ce travail.

Mes sincères remerciements à l’encadreur Dr.

Tobbeche Souad pour ses conseils constructifs et

son orientation bénéfique et objective.

BEZZIOU FATMA
Sommaire
 Sommaire

Introduction générale…………………………………………………..……………1

CHAPITRE 1
Etude des semi-conducteurs
1.1 Introduction……………………………………………………………………..…3
1.2 Les paramètres caractéristiques d’un semiconducteur………………………….....3
1.2.1 Définition ……………………………………………………………………….3
1.2.2 Conductivité …..………………………………………………………………...3
1.2.3 Photoconduction...………………………………………………………………3
1.2.4 Redressement……………………………………………………………………3
1.3 Les matériaux semiconducteurs …………………………………………………..3
1.4 Les composés binaires, ternaires et quaternaires des semi-conducteurs III-V……4
1.4.1 Les composés binaires..................................................................................……4
1.4.2 Les composés ternaires et quaternaires ……………………………………........5
1.5 Structure cristalline des semi-conducteurs ……………….……………………....7
1.6 Structure de bandes des semi-conducteurs III-V …………………………….......7
1.7 Propariétes électriques...................................................................................…......8
1.8 Dopage des semi-conducteurs composés III-V binaires et quaternaires ………....9
1.9 Courants dans le semi-conducteur……… ………………………………...….....11
1.10 Génération des porteurs en excès par la lumière……………………………….12
1.11 Mécanismes de recombinaison des porteurs en excès………………………….14
1.11.1 La recombinaison radiative ……………………………………………… ….15
1.11.2 La recombinaison Auger …………………………………………………......15
1.11.3 La recombinaison indirecte ………………………………………………......16
1.12 Conclusion…………………..…..………………………..…………………….19

CHAPITRE 2
Notions générales sur les cellules solaires
2.1 Introduction………………………..………………………..……………………20
2.2 Historique sur le photovoltaïque………………………..………………………..20
2.3 Le rayonnement solaire………...………..………………………..……………...20

I
 Sommaire

2.4 Principe de fonctionnement d’une cellule solaire… …………….……..………..22

2.5 Caractéristiques électriques d'une cellule solaire………………………..……….23
2.6 Schéma électrique équivalent ……………………………………..…………….24
2.7 Paramètres d'une cellule solaire………………………..………………………...25
2.7.1 Courant de court-circuit, Icc………………………..………………………......26
2..7.2 Tension de circuit ouvert, Vco………………………..……..…………………26
2.7.3 Facteur de forme, FF………………………..………………………..………...26
2.7.4 Rendement de conversion η………………………..………………………......26
2.7.5 Réponse spectrale d’une cellule photovoltaïque………………………..……...27
2.8 Groupement des cellules solaires………………………..…………………….....28
2.8.1 Branchement série………………………..………………………..…………..28
2.8.2 Branchement parallèle………………………..………………………..…........28
2.8.3 Branchement mixte………………………..………………………..……….....29
2.9 Hétérostructures………………………………………………………………….30
2.9.1 Propriétés du Ga1-xAlxAs et principales structures photovoltaiques…………...30
2.9.2 Equations de base….. ………………………………………………….………34
2.9.3 Hétérostructure Ga1-xAlxAs-GaAs a effet fenêtre…………………………….36
[Link] Contribution de la couche de Ga1-xAlxAs……………………………............36
[Link] Contribution de la totalité de la couche avant (PGa1-XAlxAs-PAsGa)…........37
[Link].1 Région de charge d’espace ……………………………………….……….38
[Link].2 Région quasi nneutre de typ N…..…………………………………............38
[Link].3 Courant d’éclairement…….………………………………….…………….38
2.10 Conclusion………………………..………………………..…………………...38

CHAPITRE 3
Logiciel TCAD-SILVACO
3.1 Introduction………………………..………………………..……………………39
3.2 Présentation du logiciel TCAD-SILVACO………………………..…………….39
3.2.1 Logiciel ATHENA ………………………..………………………..………….39
3.2.2 Logiciel ATLAS………………………..………………………..…………….42
3.3 Logique de programation………………………………………………………...44
3.4 Conclusion………………………..………………………..…………………….50

II
 Sommaire

CHAPITRE 4
Simulation numérique de la cellule solaire et résultat de simulation
4.1 Introduction………………………..………………………..……………………51
4.2 Paramètres électrique et modèles utiisés dans la simulaton numérique………... 51
4.3 Résultats de simulation……………………………………………………....…..53
4.3.1 Présentation de la cellule solaire…………………………………………. .......53
4.3.2 Etude comparative entre la cellule solaire à homojonction (GaAs) et cellule à
héterojonctio (Al0.3Ga0.7As /GaAs)………………………………………………….54
4.3.3 Influence des paramètres technologique de la cellule solaire sur ses paramètres
photovoltaiques………………………………………………………………………57
[Link] Influence des paramètres de la base sur les performances de la cellule…......57
[Link] Influence des paramètres de l’émetteur sur les performances de la cellule.....59
[Link] Influence des paramètres de la couche fenêtr sur les performances de la
Cellule ………………………………………………………………………….……60
[Link] Influence des paramètres de la couche BSF sur les performances de la
cellule………………………………………………………………………………...62
4.4 Conclusion………………………..………………………..…………………….64

Conclusion
Conclusion générale…………………………………………………………….65
Références
Bibliographie……………………………………………………………………..67

III
 Liste des Figure

Liste des figures

Chapitre 1 : Etude des semi-conducteurs

Figure 1.1Evolution de l’énergie de bande interdite et du paramètre cristallin des

alliages de composés III-V.
Figure 1.2 Mailles cristallographique des structures diamant et zinc blende.
Figure 1.3 Structure de bande électrique de GaAs dont la bande interdite est reportée
en pointillés ;Eg=1.42eVà 300K.
Figure 1.4 Absorption optique des semi-conducteurs à gap direct et indirect.
Figure 1.5 Schéma descriptif du processus de recombinaison de type radiatif.
Figure 1.6 Recombinaison bande à bande.
Figure 1.7 Recombinaison indirecte
Figure 1.8 Effet de la vitesse de recombinaison en surface dans le silicium.

Chapitre 2 : Notions générales sur les cellules solaires

Figure 2.1 Spectre solaire.
Figure 2.2 Structure et diagramme de bande d’une cellule photovoltaïque.
Figure 2.3 Caractéristiques I(V) à l'obscurité et sous éclairement d’une cellule
photovoltaïque.
Figure 2.4 Schéma électrique équivalent d'une pile solaire sous faible injection.
Figure 2.5 Caractéristiques I(V) et P(V) d'une cellule solaire.
Figure 2.6 Association en série de Ns cellules solaires.
Figure 2.7 Association en parallèle de Np cellules identiques.
Figure 2.8 Association mixte de NSP branches et de NMS module composés de NC
cellules identiques.
Figure 2.9 Variation des largeurs de bande interdite directe dans le Ga1-
xAlxAs(300K).

Figure 2.10 Diagramme de bandes cellule solaires.

Figure 2.11 Spectre d’absorption du Ga1-xAlxAs.
Figure 2.12 Diagramme d’énergie de l’électron.

I
 Liste des Figure

Chapitre 3 : Logiciel TCAD-SILVACO

Figure 3.1 Schéma synoptique des modules utilisés dans la simulation par TCAD-
SILVACO.
Figure 3.2 Les entrées et sorties du logiciel Athena.
Figure 3.3 Entrées et sorties d’Atlas.
Figure 3.4 Ordre des groupes de commandes fondamentales dans le logiciel Atlas.
Figure 3.5 Maillage a deux dimension (x,y).
Figure 3.6 Maillage et définition des régions dans Atlas.
Figure 3.7 Les régions et les matériaux.
Figure 3.8 Définition des électrodes.
Figure 3.9 Distribution du dopage dans une structure.
Figure 3.10 Affichage graphique des résultats par « Tony Plot ».

Chapitre 4 : Simulation numérique de la cellule solaire et résultat de simulation

Figure 4.1, (a)structure complète de la cellule solaire, (b) structure de face supérieure
de la cellule solaire.
Figure 4.2 Irradiance en fonction de la longueur d’onde du spectre solaire AM0.
Figure 4.3 Caractéristiques I(V) de cellules solaires avec et sans couche fenêtre
Ga0.3Al0.7As.
Figure 4.5 Caractéristique P(V) de cellules solaires avec et sans couche fenêtre
Ga0.3Al0.7As.
Figure 4.6 Rendement quantique externe des cellules solaires avec et sans couche
fenêtre Ga0.3Al0.7As.
Figure 4.6 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de
l’épaisseur de n, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en fonction de
l’épaisseur de n, (c) Variation du facteur de forme en fonction de
l’épaisseur de n et (d) Variation du courant du rendement de conversion en fonction
de l’épaisseur de n.
Figure 4.7 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de
l’épaisseur de p, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en fonction de
l’épaisseur de P, (c) Variation du facteur de forme en fonction de
l’épaisseur de P et (d) Variation du courant du rendement de conversion en fonction
de l’épaisseur de P.

II
 Liste des Figure

Figure 4.8 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de

+
l’épaisseur de p , (b) Variation de la tension en circuit ouvert en fonction de
l’épaisseur de p+, (c) Variation du facteur de forme en fonction de
l’épaisseur de p+ et (d) Variation du courant du rendement de conversion en fonction
de l’épaisseur de p+.
Figure 4.9 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de
l’épaisseur de n+, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en fonction de
l’épaisseur de n+, (c) Variation du facteur de forme en fonction de
l’épaisseur de n+ et (d) Variation du courant du rendement de conversion en fonction
de l’épaisseur de n+.

III
 Liste des tableaux

Chapitre 1 : Etude des semi-conducteures

Tableau 1.1 Situation des semi-conducteurs dans le tableau périodiques.
Tableau 1.2 Paramètre des principaux composés binaires III-V à 300K.
Tableau 1.3 Propriétés cristallines et électroniques des matériaux GaAs et Ga1-
xAlxAs.

Tableau 1.4 Tableau simplifié de Mendeliev d’avoir accès rapidement aux dopants
pour un matériau donné.

Chapitre 4 : Simulation numérique de la cellule solaire et résultat de la

simulation
Tableau 4.1 Les paramètres du Al0.3Ga0.7As et GaAs extraits d’Atlas .
Tableau 4.2 Grandeurs photovoltaïques des deux cellules solaire.
Tableau 4.3 Les paramètres technologiques d’une cellule solaire à hétérojonction
donnant le meilleur rendement.

I
Introduction générale
 Introduction générale

Introduction générale

La conversion photovoltaïque est la transformation directe d’une énergie

électromagnétique (rayonnement) en énergie électrique au moyen d’une cellule
solaire, l’effet photovoltaïque a été utilisé au début des années cinquante dans les
applications pour l’espace (alimentation des satellites) et ses premières utilisations au
niveau de la terre est dans les années soixante-dix.
L’élément de base dans la conversion du rayonnement de la lumière est la cellule
photovoltaïque. Plusieurs cellules sont associées dans un module. Un ensemble de
modules sont groupés en panneaux eux même associés pour former le champ
photovoltaïque.
Les cellules solaires à base de l’arséniure de gallium ont été largement utilisées, plus
particulièrement aux applications spatiales, et ce à cause de leur rendement élevé et
leur faible dégradation face aux irradiations dans l’espace.
La principale limitation des performances des cellules solaires au GaAs est la
réduction du rendement de collecte provenant de la recombinaison élevée en surface,
la vitesse de recombinaison variant de 106 à 107 cm/s. Plusieurs structures réduisant
l’effet de la disparition des porteurs en surface ont été proposées. Parmi ces
structures, une cellule solaire en GaAs comportant une fenêtre formée par une mince
couche ternaire AlGaAs à fort taux d’aluminium est épitaxiée sur l’homojonction P-N
en GaAs. Les photons d’énergie inférieure à la largeur de bande interdite du AlGaAs
sont absorbés uniquement dans la couche GaAs et les porteurs ainsi générés par le
rayonnement solaire sont d’autant plus collectés à la jonction que les états d’interface
à l’hétérojonction présentent une densité faible (S104 cm/s) [1-3].
Le but de ce travail, est d'étudier les caractéristiques électriques d’une structure
p+(AlGaAs)/p(GaAs)/n(GaAs)/n+(GaAs) utilisée comme cellule solaire à base de
GaAs et de son alliage AlGaAs.
Le présent travail est composé de quatre chapitres. Dans le premier chapitre, nous
avons donné les notions fondamentales sur les semi-conducteurs nécessaires à la
compréhension du fonctionnement de la cellule solaire à base de GaAs. Le deuxième
chapitre est consacré à l'effet photovoltaïque, le principe de fonctionnement d'une
cellule solaire et les équations de transport d’une hétérojonction AlGaAs/GaAs. Les

1
 Introduction générale

calculs numériques des caractéristiques électriques de la cellule solaire seront

effectués par l’utilisation du logiciel Tcad-Silvaco [4]. Ce dernier a fait l’objet du
troisième chapitre dans lequel sera décrit les différents modules de ce logiciel ainsi
que les principales commandes de programmation d’un composant électronique. Le
quatrième chapitre groupe l’ensemble des résultats de simulation électrique
(caractéristique I-V et réponse spectrale) de la cellule solaire à base d’AlGaAs/GaAs
et l’effet de chaque couche formant la cellule solaire sur ses performances
photovoltaïques. En fin de ce mémoire, une conclusion générale sera présentée sur
l’ensemble des résultats obtenus après l’étude faite sur ce type de cellules solaires.

2
 Chapitre 1
Etude des semi-conducteurs
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

1.1 Introduction
L’objectif de ce chapitre est de présenter quelques notions sur les semi-conducteurs en
général et les semi-conducteurs III-V en particulier telles que les paramètres
caractéristiques électroniques et optiques, le transport de charges et les mécanismes de
génération et de recombinaison des porteurs.

1.2 Les paramètres caractéristiques d’un semi-conducteur

1.2.1 Définition
Un semi-conducteur est un matériau qui présente une conductivité intermédiaire entre
celle des métaux (conducteurs) et des isolants. La spécificité d’un semi-conducteur par
rapport aux autres matériaux réside dans les propriétés suivantes :
 conductivité
 photoconduction
 redressement

1.2.2 Conductivité
Pour un métal, la conductivité décroît quelque peu avec la température de même pour
un isolant. Pour un semi-conducteur elle croît par contre très rapidement avec la
température. Dans un métal, la conduction est assurée par un seul type de porteurs qui
sont en général les électrons. Par contre sont les électrons et les trous. Cette notion de
porteurs (électrons et trous) sera développée un peu plus loin.

1.2.3 Photoconduction
Un semi-conducteur éclairé voit sa résistivité diminuer. Cette propriété est absente
chez les conducteurs et les isolants.

1.2.4 Redressement
Dans un semi-conducteur, le passage du courant est dans un seul sens. Cette propriété
est très utilisée pour le redressement de courant alternatif.

1.3 Les matériaux semi-conducteurs

En analysant le tableau de Mendéliev, une partie de ses éléments (tableau 1.1), est
considérée comme étant formée de semi-conducteurs [5].

3
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

groupe I II III IV V VI V II V II
B C N O
Al Si P S
Zn Ga Ge As Se

Cd In Sn Sb Te I

Tableau .1.1 Situation des semi-conducteurs dans le tableau périodique.

En raison de leurs propriétés physiques le germanium(Ge) et surtout le silicium(Si)

sont les plus utilisés dans les applications électroniques.
Les développements de la technologie ont permis de nouveaux semi-conducteurs
beaucoup plus performants. Ces semi-conducteurs utilisent les alliages composés des
groupes III-V et II-IV.
On obtient ainsi les semi-conducteurs AsGa; PGa; SbGa etc … Le semiconducteur
AsGa devient aujourd’hui de plus en plus utilisé.

1.4 Les composés binaires, ternaires et quaternaires des semi-conducteurs III-V

1.4.1 Les composés binaires

Parmi tous les composés binaires possibles, tous n'ont pas le même intérêt potentiel.
L'étude de leurs propriétés, et en particulier de la structure de bandes montre que les
éléments les plus légers donnent des composés dont laquelle la bande interdite est
large et indirecte, et dans laquelle la masse effective des électrons est élevée. Les
composés contenant du bore, de l'aluminium ou de l'azote entrent dans cette catégorie;
ils ont en général peu d'intérêt pour l'électronique rapide [6], qui demande de semi-
conducteurs à forte mobilité de porteurs ou pour l'optoélectronique ou une structure de
bande directe est nécessaire pour que les transitions optiques soient efficaces [7]. A
l'autre extrémité, les éléments lourds comme le thallium ou le bismuth donnent des
composés à base de Galium (GaAs, GaSb) ou d'indium (InP, InAs, InSb) dont les
propriétés sont les plus intéressantes. Le tableau 1.2 résume quelques paramètres pour
différents matériaux de la famille III-V.

4
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Tableau 1.2 Paramètres des principaux composés binaires III-V à 300 K [8, 9]

1.4.2 Les composés ternaires et quaternaires

L'intérêt pratique des semi-conducteurs III-V est encore considérablement renforcé par
la possibilité de réaliser des alliages par substitution partielle de l'un des éléments par
un autre élément de la même colonne. On sait par exemple obtenir des alliages
ternaires, ou quaternaires qui sont identifiés de la façon suivante :
Ternaires : S'il y a substitution de 2 atomes sur l'un des sous réseaux, soit,
AxA(1-x)B Exemple : GaxIn(1-x)P , lorsque la composition exacte compte peu, on écrit
tout court GaInP .
Quaternaires 1+3 :S'il y a substitution de 3 atomes sur des sous réseaux soit :
AxAyA(1-x-y)B. Exemple GaxInyAl(1-x-y)As .

Quaternaires 2+2 :S'il y a substitution de 2 atomes sur chacun des deux sous réseaux,
soit : AxA(1-x)ByB(1-y). Exemple GaxIn(1-x)PyAs(1-y).
La plupart des solutions solides ainsi réalisées sont complètes, la loi de Vegard
(Relation linéaire entre le paramètre de réseau et la composition) est

5
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

approximativement suivie, et on observe une évolution progressive et régulière des

propriétés (dont la bande interdite et les paramètres cristallins) en fonction du taux de
Substitution [10].
Le diagramme de la figure 1.1 représente les variations de l'énergie de bande interdite
en fonction du paramètre cristallin a qui varie lui même avec la composition. Les
points du graphe figurent la position des composés binaires, et les lignes représentent
l'évolution du gap Eg et du paramètre cristallin a, en fonction de la composition des
alliages ternaires. Certaines lignes présentent un point anguleux qui dénote une
transition entre un gap direct et un gap indirect. Ce diagramme est donc très important
parce qu'il permet de connaître la composition de tout alliage ternaire susceptible d'être
déposé en couche mince sur un substrat binaire comme GaAs ou InP. Les matériaux
III-V offrent donc une grande variété de compositions permettant de modifier leurs
propriétés électroniques [11].

Figure 1.1 Evolutions de l'énergie de bande interdite et du paramètre cristallin des

alliages de composés III-V.

6
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

1.5 Structure cristalline des semi-conducteurs III-V

La plupart des matériaux III-V cristallisent dans la structure sphalérite dite "Zinc
Blende" présentée sur la figure 1.2. Cette structure, qui s'apparente à celle du diamant
(C, Ge, Si, etc.), est constituée de deux sous-réseaux cubique face centrée (cfc), l'un
d'éléments III et l'autre d'éléments V.

Figure 1.2 : Mailles cristallographiques des structures Diamant et Zinc Blende.

De ce fait, dans les matériaux III-V, les liaisons atomiques ne sont pas simplement
covalentes comme dans le silicium. Elles reposent sur le transfert d'électrons des
atomes du groupe V sur ceux du groupe III. Dans le cas du phosphure d'indium, le
phosphore possède cinq électrons périphériques et l'indium trois. Dans le cristal,
chaque atome de phosphore est entouré de quatre atomes d'indium, et chaque atome
d'indium est entouré de quatre atomes de phosphore. Il se produit alors un échange
d'électrons, et le cristal se construit avec les ions P+ et In-, qui ont tous quatre électrons
périphériques. Cette répartition est à l'origine du caractère partiellement ionique et
partiellement covalent des liaisons (semi-conducteurs polaires), qui sont orientées dans
l'espace suivant les axes de symétrie d'un tétraèdre régulier [11].

1.6 Structure de bandes des semi-conducteurs III-V

Le gap est direct dans les semi-conducteurs III-V car le minimum de la bande de
conduction et le maximum de la bande de valence correspondent au même vecteur
d'onde, au centre de la zone de Brillouin (figue 1.3). La transition d'énergie minimale
entre ces deux bandes peut avoir lieu sans changement de vecteur d'onde, ce qui

7
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

permet l'absorption et l'émission de lumière de façon beaucoup plus efficace que dans
les matériaux à gap indirect comme le silicium [10].

Figure 1.3 : Structure de bande électronique du GaAs dont la bande interdite est
reportée en pointillés ; Eg = 1.42 eV à 300 K. Le maximum de la bande de valence et
le minimum de celle de conduction sont au centre (de la zone de Brillouin d’où une
absorption et une émission de lumière très efficaces (‘gap direct’ tout comme l’InP,
InAs, GaSb, InSb, AlSb).

1.7 Propriétés électriques

Dans le tableau 1.3, on a regroupé les paramètres cristallines et électriques des
matériaux GaAs et Ga1-xAlxAs ; celles de ce dernier sont donnés en fonction de la
fraction molaire x [12].

8
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Tableau 1. 3 : Propriétés cristallines et électroniques des matériaux GaAs et

Ga1-xAlxAs [12].

1.8 Dopage des semi-conducteurs composés III-V binaires, ternaires et

quaternaires
Les élément de la colonne II du tableau de Mendeliev (Be, Mg, Zn, Cd ,Hg) sont des
impuretés acceptrices quand elles se placent en site substitutionnel de l’élément III ,
soit [13] :
BeGa (pour un dopage de type p dans l’arséniure de gallium), Mg In(pour un dopage de
type p dans le phosphure d’indium), ZnGa(pour un dopage de type p dans de l’arséniure
de gallium) etc.
Les éléments de la colonne VI du tableau périodique des éléments sont des donneurs
s’ils se placent en site substitutionnel des éléments de la colonne V. SP (pour un dopage

9
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

de type n dans le phosphure d’indium), SeAs (pour un dopage de type n dans de

l’arséniure de gallium) etc. sont alors des impuretés donatrices avec des niveaux
énergétiques proches de la bande de conduction.
Les éléments de colonne IV, s’ils se placent en site substitutionnel des éléments de la
colonne III sont aussi des donneurs. Le silicium en site gallium ou en site indium dopé
de type n l’arséniure de gallium et le phosphure d’indium respectivement.

II III IV V VI
Be B C N O
Mg Al Si P S
Zn Ga Ge As Se
Cd In Sn Sb Te
Hg

Accepteurs Accepteurs Donneurs Donneurs pour

III-V pour IV pour IV pour III-V

Tableau 1 .4 : Tableau simplifié de Mendeliev permettant d’avoir accès rapidement

aux dopants pour un matériau donné.

Ces éléments de la colonne IV sont dits amphotères, c’est-à-dire qu’ils peuvent se

mettre soit en site III, soit en site V, et donc être soit donneur ou accepteurs, selon les
conditions de croissance favorisant plus ou moins la localisation de l’impureté en site
III ou V.
Pendant une croissance épitaxiale en phase liquide (conditions de croissance riches en
gallium (indium)), le silicium est accepteur, se plaçant en site arsenic (phosphore).
Pendant la croissance épitaxiale de type MBE ou MOCVD, au contraire, on se trouve
dans des conditions riches en arsenic (phosphore) et alors l’impureté amphotère se
place préférentiellement en site gallium (indium). En implantation ionique, le silicium,
quoiqu’amphotère, se place préférentiellement en site III ; à plus de 90%, il est
donneur. Le carbone est de préférence accepteur dans l’arséniure de gallium, et plutôt
donneur dans le phosphure d’indium.
Dans les semi-conducteurs III-V, certaines impuretés présentent la particularité d’avoir
un niveau d’énergie dans la bande interdite loin de la bande de condition et de celle de

10
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

valence. Avec de telles impuretés, le niveau de Fermi peut se placer près du milieu de
bande interdite, et alors le semi-conducteur est semi isolant (ρ >107Ω. cm).
Typiquement, le chrome est un accepteur profond dans la GaAs et le fer est un
accepteur profond dans l’InP semi isolant est obtenu par dopage avec du fer.

1.9 Courants dans le semi-conducteur

Les courants dans le semi-conducteur résultent du déplacement des porteurs de charge,
électrons et trous, sous l'action de différentes forces, l'origine de ces forces peut être un
champ électrique (courant de conduction) ou un gradient de concentration (courant de
diffusion).
Le courant de conduction pour chaque type de porteurs (électrons, trous) est
proportionnel au champ électrique [14]:

 
j n  en  n E (1.1)
 
j p  ep  p E (1.2)

Le courant total s'écrit alors:

  
J c = e (nµn + pµ p ) E = E (1.3)

Avec   e (n  n  p  p ) est la conductivité et  n (  p ) est la mobilité des électrons

(trous).
Lorsque les porteurs libres ne sont pas distribués uniformément dans le semi-
conducteur, ils sont soumis au processus de diffusion. Au déplacement des porteurs de
charges correspondent des courants de diffusion:
 dn
j dn  eD n (1.4)
dx
 dp
j dp  eD p (1.5)
dx
Dn et Dp sont les constantes de diffusion des électrons et des trous respectivement.

Le courant total de diffusion s'écrit donc:

 dn dp
j d  eD n  eD p (1.6)
dx dx

11
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Compte tenu des expressions (1.1), (1.2) et (1.4), (1.5) les courants résultants
d'électrons et de trous s'écrivent:
  dn
j n  e  n n E  eD n (1.7.a)
dx
  dp
j p  e  p p E  eD p (1.7.b)
dx
La constante de diffusion D et la mobilité  d'un type de porteur sont liées par la
relation d'Einstein:

Dn Dp KT
 
n p e
(1.8)

1.10 Génération de porteurs en excès par la lumière

Les théories ondulatoires (équations de maxwell) ou corpusculaires de la lumière nous
permettent d’aborder les échanges entre la matière et le rayonnement lumineux.
Conformément à la théorie corpusculaire, les quanta d’énergie associés au
rayonnement lumineux s’appellent photons. Dans le cadre de la mécanique quantique,
l’énergie du photon correspondant à une radiation donnée est reliée à sa longueur
d’onde par la relation :

hc 1,24
 p  hv   (1.9)
 

ν : fréquence de la radiation.

λ: longueur d’onde de la radiation en µm.

c : vitesse de la lumière

Ep : energie du photon en eV

h: constante de Plank.

Une radiation lumineuse rencontrant un semi-conducteur est absorbée suivant la loi de

lambert-Bouguer :

 x    1  R  exp x    0 exp x . (1.10)

12
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

x : profondeur d’absorption du faisceau dans le matériau à partir de la surface du semi-

conducteur.
R : coefficient de réflexion, représente la part de l’énergie lumineuse incidente I,
réfléchie à la surface du matériau.
α : coefficient d’absorption, traduit la probabilité d’absorption d’un photon par unité de
longueur. I1 change selon le matériau.
Quand les photons incidents ont une énergie suffisante pour provoquer le transfert des
électrons de la bande de valence sur la bande de conduction, des paires électron-trou
peuvent se créer. Ce phénomène appelé mode d’absorption intrinsèque ou
fondamentale prédomine dans les cellules solaires.
La figure 1.4 donne les spectres d’absorption de certains matériaux. L’énergie
minimale nécessaire au photon incident pour provoquer la transition électronique
dépend de la largeur de bande de bande interdite Eg du matériau. A partir de la relation
(1.9), on détermine un seuil d’absorption intrinsèque. Dans le cas du silicium, λ=1.1
µm et dans celui de l’arséniure de gallium, λ=0.86 µm. Pour les photons d’énergie
inférieure à Eg , le coefficient d’absorption est négligeable et la radiation lumineuse
traverse le matériau avec une atténuation quasiment nulle. D’autres types d’absorption
optique interviennent encore dans le cristal : par les atomes d’impuretés (absorption
extrinsèque), par les porteurs libres, le réseau, la formulation d’une paire électron-trou
liés appelée exciton… I1résulte de cette énumération de processus complexes
intervenant sous certaines conditions du milieu ambiant, que le spectre d’absorption du
semi-conducteur varie avec la température ou d’autres facteurs tels que les champs
électrique et magnétique et la pression [15].

13
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Figure 1.4 Absorption optique des semi-conducteurs à gap direct et indirect [14].

Le calcul du taux de génération de paires électron-trou, G (x ) (cm-3s-1 ) s'effectue de la

façon suivante. Appelant Io , le flux de photons (cm-2s-1) incidents sur la face éclairée
du matériau et  (cm-1) le coefficient d'absorption de la lumière par le matériau. A la
profondeur x, ce taux de génération vaut:

G ( x )   .(1  R ) I o .e x (1.11)

1.11 Mécanismes de recombinaison des porteurs en excès

Le semi-conducteur dans lequel les porteurs excédentaires ont été créés par injection
photonique, conformément au processus décrit dans le paragraphe précédent, va
tendre à revenir à l’état d’équilibre. La disparition des porteurs en excès rétablissant

14
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

l’équilibre thermodynamique se produit par l’intermédiaire de mécanismes de

recombinaison.
On distingue trois modes de transfert de l’énergie du porteur :

1.11.1 La recombinaison radiative

Le porteur en excès repasse directement de la bande de conduction à la bande de
valence, en évacuant son énergie par émission d’un photon (figure 1. 5). Ce processus
est important pour les matériaux à bande interdite directe comme le GaAs et faible
pour les matériaux à gaps indirects comme le Si. Le taux de recombinaison est défini
par [16]:

U= ( . − ) (1.12)

Où Bo (cm3/s) est le coefficient de recombinaison radiative, il dépend de la température

et sa valeur expérimentale à la température ambiante égale à 1.14×10-14 cm-3 s-1.

Figure1.5 Schéma descriptif du processus de recombinaison de type radiatif

1.11.2 La recombinaison Auger

L’énergie libérée par la recombinaison transfère un électron sur un niveau
supérieur de la bande de conduction, ou un trou sur un niveau plus profond de la
bande de valence, comme le montre la figure 1.6.

15
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Figure 1.6 Recombinaison bande à bande.

Ce mécanisme est prédominant pour les régions fortement dopées.

Le taux de recombinaison est donné par la relation [14] :

U=AUGN.(pn2-nni2)+AUGP.(np2-pni2) ( 1.13)

Avec AUGN et AUGP les coefficients Auger pour les électrons et les trous.

1.11.3 La recombinaison indirecte

C’est le mécanisme le plus probable à température ambiante, dans les matériaux semi-
conducteurs les plus utilisée pour les cellules solaires, le silicium et l’arséniure de
gallium. La recombinaison s’effectue en deux étapes, par l’intermédiaire d’un centre
de recombinaison qui est un défaut ou une impureté, situé à un niveau profond, proche
du milieu de la bande interdite.
L’électron libre capturé par le centre qui de l’état neutre devient négatif peut être
réémis vers la bande de conduction. La figure 1.7 montre qu’un processus identique se
produit pour un trou capturé. Au total, un électron et un trou libres disparaissent. Une
paire électron-trou s’est recombinées.

16
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Figure 1.7 Recombinaison indirecte

Le taux de recombinaison en porteurs libres (cm-3.s-1) de Shockley-Read-Hall [16,17]

s’écrit :

2
pn  n i
U SRH  (1.14)
 n  p  p1    P  n  n1 

Ou n1 et p1 représentent les termes d'émission et sont donnés par:

E t  E fi ( E t  E fi )
n1  n i exp , p1  n i exp (1.15)
K .T K .T

Tels que Et représente l'énergie du niveau piège proche du milieu de la bande interdite,
Efi le niveau de Fermi intrinsèque et τn et τp sont les durées de vie des électrons et des
trous.

* Recombinaison en surface
La surface du semi-conducteur présente de nombreux défauts. Les traitements qu’elle
subit lors du polissage et de l’attaque chimique, l’oxyde natif qui, dans le milieu
ambiant, croît en quelques minutes sur plusieurs dizaines d’angströms (Å) perturbent
profondément la structure cristalline au voisinage de la surface.
Quand on éclaire le matériau uniformément, la recombinaison superficielle provoque
une concentration en porteurs excédentaires moins importante en surface que dans le
volume. Afin de pallier ce déséquilibre, les porteurs générés diffusent vers la surface,

17
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

donnant naissance à un courant de diffusion. Dans le cas d’un matériau de type N par
exemple [15]:
 p
DP  S p (1.16)
x

S : vitesse de recombinaison en surface (cm.s-1).

Dans le cas d’une densité élevée de centres en surface, et en l’absence de zone de
charge d’espace superficielle, on écrit :

S   p N stvt h (1.17)

Nst : densité superficielle en centres recombinants.

σp : section efficace de capture du centre.
Avec un matériau tel que le silicium, on prend en général une valeur S comprise entre
102 et 106 cm.s-1. La figure 1.8 montre l’influence des vitesses de recombinaison en
surface s1 et s2. La répartition de la densité de porteurs en excès sous une excitation
lumineuse de longueur d’onde λ =1µm a été représentée en valeurs normalisées, en
fonction de la profondeur dans l’échantillon.

Figure 1.8 Effet de la vitesse de recombinaison en surface dans le silicium.

Dans l’arséniure de gallium, S est plus élevé de 104 à 107 cm.s-1. Avec ce matériau à
bande interdite directe, la génération des paires électron-trou se localise sur quelques
microns de profondeur. Cette recombinaison superficielle se révèle encore plus gênant
qu’avec le silicium.

18
Chapitre 1 Etude des semi-conducteurs

Le taux de recombinaison Shockley-Read-Hall en surface est donné par l’expression

suivante [17]:

n s p s  n i2
Us  (1.18)
(n s  n1 ) ( p s  p1 )

Sp Sn

Où Sp et Sn (cm/s) sont respectivement les vitesses de recombinaison en surface pour

les électrons et les trous, ns et ps sont les concentrations des porteurs à la surface.

1.12 Conclusion
Dans ce chapitre, nous avons rappelé quelques notions de base de la physique des
semi-conducteurs III-V et nous avons donné leurs propriétés électriques et optiques.
Nous avons aussi étudié les mécanismes de génération et de recombinaison de porteurs
en excès par la lumière tout en donnant leurs modèles analytiques.

19
 Chapitre 2
Notions générales sur les cellules
solaires
Chapitre 2 Cellule solaire

2.1 Introduction
La cellule solaire est un composant semi-conducteur qui transforme l’énergie
lumineuse en électricité. La puissance électrique qu’elle délivre dépend du flux et de la
répartition spectrale du rayonnement solaire. La lumière incidente génère des courants
dans la cellule solaire. La collecte de ces courants se révèle plus ou moins efficace
suivant la structure technologique et les caractéristiques physiques du semi-
conducteur.
Dans ce chapitre, on analyse les phénomènes qui interviennent sur le transport de
charge dans les différentes parties de la cellule solaire à hétérojonction. Il nous a utile
d’introduire d’abord la définition du rayonnement solaire, le principe de
fonctionnement d’une cellule solaire ainsi que ses caractéristiques électriques.

2.2 Historique sur le photovoltaïque

L'effet photovoltaïque qui consiste à transformer directement la lumière en électricité
fût découverte en 1839 par E. Becquerel et resta longtemps considéré comme une
curiosité scientifique. L'énergie photovoltaïque eut un regain d'intérêt dans les années
1950 lors des premiers lancements spatiaux de satellites puis lors des missions
lunaires. Les crises économiques des années 1970 (flambée des prix du pétrole, 1973)
puis les accidents de centrales nucléaires tels ceux de Three Mile Island (USA, 1979)
ou de Tchernobyl (URSS, 1986) jetèrent un discrédit sur les énergies fossiles et
atomiques et renforcèrent l'intérêt du grand public envers les énergies renouvelables.
Longtemps considérée comme utopique et farfelue, l'énergie photovoltaïque s'impose
comme une des sources d'énergies renouvelables les plus prometteuses.

2.3 Le rayonnement solaire

Malgré la distance considérable qui le sépare de la terre, quelque cent cinquante
millions de kilomètres, le soleil fournit une énergie importante. A la limite de
l’atmosphère, l’hémisphère éclairé de la terre reçoit une puissance de 1.81017 watts,
sous la forme d’un rayonnement dont le spectre se répartit essentiellement entre les
longueurs d’onde 0.3 µm et 4 µm. l’atmosphère terrestre perturbe cette répartition
spectrale, modifie l’intensité du rayonnement solaire incident qui est réfléchi, diffusé
et absorbé par les gaz, les aérosols et les nuages. Dans les conditions les plus
favorables, cette puissance rayonnée atteint environ 1000 watts par mètre carré au sol.

20
Chapitre 2 Cellule solaire

Cet apport énergétique est dispersé puisque la durée d’ensoleillement varie d’une
région à l’autre du globe terrestre. I1 change aussi selon les saisons, les
caractéristiques climatiques du site. Ce caractère intermittent propre à l’énergie solaire
constitue un handicap auquel on remédie au besoin, en stockant l’énergie obtenue sous
sa forme utilisable, essentiellement électrique [15].
Le rayonnement émis par le soleil correspond à celui du corps noir à la température de
6000 °C. L'intensité du rayonnement au dessus de l'atmosphère est de 1.35 kW/m2,
avec un spectre centré au voisinage de =0.48 m. A la surface du sol la densité de
puissance n'est plus que de 0.9 kW/m2, en raison de l'absorption essentiellement par
l'ozone, l'eau et le gaz carbonique. En outre, le spectre n'est plus continu mais présente
des bandes d'absorption [14].

Figure 2.1 Irradiance ou spectre solaire à la surface de l’atmosphère terrestre (AM0) et

au sol (AM1.5D et AM1.5G). Les semi-conducteurs les plus couramment utilisés pour
le photovoltaïque sont indiqués à la longueur d’onde correspondant à leur énergie de
gap Eg à la température ambiante [18].

Pour mesurer l'effet de l'atmosphère on utilise l'air masse, défini par AM=1/cos ou 
représente l'angle que fait la direction du soleil avec la verticale. AM0 est utilisé pour

21
Chapitre 2 Cellule solaire

préciser les conditions au dessus de l'atmosphère. AM 1.5 étant celui atteignant le sol
par temps clair (surface d’un mètre carré faisant un angle de 48° avec l’équateur). De
plus, on distingue les spectres AM1.5D et AM1.5G qui correspondent respectivement
au flux direct et au flux global (direct + diffus). Ces spectres sont donnés sur la figure
2.1, sur laquelle sont aussi indiqués les matériaux semi-conducteurs les plus utilisés
pour les applications photovoltaïques et leur énergie de gap Eg .

2.4 Principe de fonctionnement d’une cellule solaire

L'effet photovoltaïque utilisé dans les cellules solaires permet de convertir directement
l'énergie lumineuse des rayons solaires en électricité par le biais de la production et du
transport dans un matériau semi-conducteur des charges électriques positives et négatives sous
l'effet de la lumière. Ce matériau comporte deux parties, l’une présentant un excès d'électrons
et l’autre un déficit en électrons, dites respectivement dopée de type n et dopée de type p.
Lorsque la première est mise en contact avec la seconde, les électrons en excès dans le
matériau n diffusent dans le matériau p. La zone initialement dopée n devient chargée
positivement, et la zone initialement dopée p devient chargée négativement. Il se crée donc
entre elles un champ électrique qui tend à repousser les électrons dans la zone n et les trous
vers la zone p. Une jonction PN est donc formée. En ajoutant des contacts métalliques sur les
zones n et p, une diode est obtenue. Lorsque la jonction est éclairée, les photons d'énergie
égale ou supérieure à la largeur de la bande interdite cèdent leur énergie aux atomes, chacun
fait passer un électron de la bande de valence dans la bande de conduction et laisse aussi un
trou capable de se mouvoir, engendrant ainsi une paire électron-trou. Si une charge est placée
aux bornes de la cellule, les électrons de la zone n rejoignent les trous de la zone p via la
connexion extérieure, donnant naissance à une différence de potentiel et un courant électrique
circule.

22
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.2 Structure et diagramme de bande d’une cellule photovoltaïque.

Le principe de fonctionnement d’une cellule solaire est illustré sur la figure 2.2. Les
photons incidents créent des porteurs dans les régions N, P et la zone de charge
d'espace. Le comportement de ces porteurs libres diffère suivant le lieu de leur
création. Dans les zones électriquement neutres P et N, les photoporteurs minoritaires
diffusent. Ceux qui atteignent la région de charge d’espace sont propulsés par le champ
électrique vers la région où ils deviennent majoritaires. Ces photoporteurs contribuent
donc ou courant par leur diffusion, ils créent un photocourant de diffusion. Dans la
zone de charge d'espace, les paires électrons trous créés par les photons sont dissociées
par le champ électrique, l'électron est propulsé vers la région de type N et le trou vers
la région de type P. Les porteurs donnent naissance à un photocourant de génération.
Ces deux contributions s'ajoutent pour créer un photocourant résultant Iph qui contribue
au courant inverse de la diode [16].

2.5 Caractéristiques électriques d'une cellule solaire

Une cellule solaire reliée à une résistance électrique et soumise à l'éclairement solaire
débite un courant qui va se répartir entre la résistance et sa structure interne de diode.
Sa caractéristique I (V ) correspond à la soustraction du photocourant et du courant de
la diode à l’obscurité par [16 ,19]:

I (V )  I obs (V )  I ph  I s exp(qV / KT  1)  I ph (2.1)

23
Chapitre 2 Cellule solaire

Avec Iph la densité de courant photogénèré, Iobs la densité de courant d'obscurité, Isle
courant de saturation de la diode, q la charge élémentaire, K la constante de Boltzmann
et T la température.
La caractéristique d'une cellule à l'obscurité est identique à celle d'une diode. Nous
avons représenté sur la figure 2.4 les deux caractéristiques courant-tension d’une
cellule solaire à l’obscurité en pointillés, et sous illumination en trait plein. On
remarque que la courbe sous illumination est simplement décalée par rapport à la
première d’une valeur Icc, qui traduit la génération constante du courant par la lumière.
Cette valeur est appelée courant de court-circuit, puisque c’est le courant que génère la
cellule sous lumière à tension nulle. La valeur Vco, à l'inverse, est la tension de circuit
ouvert. Il représente en fait l’égalité du courant de génération par la lumière et du
courant à l'obscurité [20].

Figure 2.3 Caractéristiques I(V) à l'obscurité et sous éclairement d’une cellule

photovoltaïque.

2.6 Schéma électrique équivalent

Nous avons vu que la pile solaire en fonctionnement pouvait s’identifier à un
générateur de courant délivrant le courant de lumière (IE), auquel il faut soustraire le
courant de la diode en polarisation directe (Iobs).
En pratique, on introduit une résistance parallèle (résistance shunt) RP qui rende
compte d’effets tels que le courant de fuite par les bords de la photopile, et une
résistance série RS qui traduit les phénomènes de résistance de contact (métallisations
de grille et de la face arrière), de la couche de base et de la zone avant de la pile
solaire. Dans un composant de bonne qualité, RP est supérieure à 104 ohms et RS
inférieure à 1 ohm. On raisonne aussi en termes de courants, en multipliant la densité
de courant par la totalité de la surface en face avant de la pile solaire.

24
Chapitre 2 Cellule solaire

Le schéma électrique équivalent est représenté figure 2.4. On écrit [15]:

   E   obs1   obs 2    P (2.2)

Soit :

  Vj     V   Vj
   E   S 1 exp   1   S 2 exp j   1  (2.3)
  UT     2U T   RP

VJ = V + [Link]
(2.4)

I : courant dans la charge

IE : courant d’éclairement

Iobs1 et Iobs2 : courant de diode

IP : courant dans la résistance parallèle.

Figure 2.4 Schéma électrique équivalent d’une pile solaire sous faible injection.

On peut utiliser ce schéma tant que RS et RP ne dépendent pas de l’éclairement.

2.7 Paramètres d'une cellule solaire

Les grandeurs caractéristiques principales des cellules solaires sont [20]:
- Le courant de court-circuit Icc
- La tension en circuit ouvert Vco
- Le facteur de forme FF
- Le rendement de conversion d’énergie 
- La réponse spectrale RS

25
Chapitre 2 Cellule solaire

2.7.1 Courant de court-circuit, Icc

Ce courant est obtenu en court-circuitant les bornes de la cellule, il croît linéairement
avec l'intensité d'illumination de la cellule et dépend de la surface éclairée, de la
longueur d'onde du rayonnement et de la température.

2.7.2 Tension de circuit ouvert, Vco

La tension de circuit ouvert est obtenue quand le courant qui traverse la cellule est nul.

2.7.3 Facteur de forme, FF

La puissance fournie au circuit extérieur par une cellule photovoltaïque sous
éclairement dépend de la résistance de charge (résistance externe placée aux bornes de
a cellule). Cette puissance est maximale (notée Pm) pour un point de fonctionnement
Pm (Im,Vm ) de la courbe courant-tension (Figure 2.7). Le facteur de forme est défini par
la relation suivante:
Pm V .I
FF   m m (2.5)
V co .I cc V co .I cc

2.7.4 Rendement de conversion η

Le rendement , des cellules solaires désigne le rendement de conversion enpuissance.
Il est défini comme étant le rapport entre la puissance maximale délivrée par lacellule
et la puissance lumineuse incidente Pin

Pm FFV. co .I cc
  (2.6)
Pin Pin
Pin : la puissance incidente est égale à la puissance solaire Psolaire (Psolaire= 100
mW/cm2).
Ce rendement peut être amélioré en augmentant le facteur de forme, le courant de
court-circuit et la tension en circuit ouvert.
A température et éclairage constants, le rendement d’une cellule solaire dépend de la
charge dans le circuit électrique. En circuit ouvert (Rc = ∞, I = 0, V = Vco) ou en court-
circuit (Rc = 0, I = Icc,V = 0), aucune énergie n’est transmise à l’extérieur. Entre ces
deux extrêmes, il existe une valeur optimale Ropt de la résistance de charge Rc pour
laquelle la puissance fournie par la cellule solaire à la résistance de charge est
maximale notée Pm (figure 2.5).

26
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.5 Caractéristiques I(V) et P(V) d'une cellule solaire.

2.7.5 Réponse spectrale d’une cellule photovoltaïque

La réponse spectrale RS d'une cellule photovoltaïque est le rapport entre le courant de
court-circuit généré par la cellule et la puissance lumineuse incidente, en fonction des
différentes longueurs d'onde formant le rayonnement incident.
La réponse spectrale RS est donnée par la relation suivante [20]:

I cc ( )
RS ( )  (A/W) (2.7)
Pin ( )

Le rendement quantique externe EQE de la cellule est le rapport du nombre de

porteurs générés sur le nombre de photons incidents pour chaque longueur d'onde, il
est relié à la réponse spectrale par :

hc
EQE ( )  SR ( ) (2.8)
q

Le rendement quantique interne IQE de la cellule est le rapport du nombre de porteurs

générés sur le nombre de photons pénétrant dans le matériau, il est relié au rendement
quantique externe EQE par l'équation :

EQE ( )
IQE ( )  (2.9)
1  R ( )

Ou R ( ) représente le coefficient de réflexion pour la longueur d’onde.

27
Chapitre 2 Cellule solaire

2.8 Groupement des cellules solaires

Les cellules solaires sont rarement employées seules, si ce n'est pour l'alimentation de
très petits circuits. Dans la plupart des cas, elles sont regroupées et associés en un
grand nombre. En général la puissance fournie par une cellule individuelle étant très
petite, nous sommes donc appelés à réaliser des groupements séries ou parallèles des
cellules afin de recueillir la tension et le courant nécessaires à une certaine application
en fonction de la charge variable ou fixe à alimenter. La forme générale de la
caractéristique (I-V) d'un module solaire ou photovoltaïque est identique à celle d'une
cellule solaire élémentaire [20].

2.8.1 Branchement série

Les tensions de circuit ouvert de Ns modules peuvent être différentes mais le courant
de court circuit qui les traverse est le même. La tension de l'ensemble est égale à la
somme des tensions de circuit ouvert (figure 2.6) [20].

Figure 2.6 Association en série de Ns cellules solaires.

2.8.2 Branchement parallèle

Dans un tel montage, les modules ont la même tension de circuit ouvert et des courants
de court circuit différents, on aura donc un courant égal à la somme des courants de
chaque module alors que la tension sera celle du module (figure 2.7) [20].

28
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.7 Association en parallèle de Np cellules identiques.

2.8.3 Branchement mixte

Si pour une application donnée il est nécessaire de faire augmenter le courant et la
tension délivrée par les cellules solaires, on réalise un groupement mixte ou
groupement série-parallèle. On parlera dans ce cas de module et de panneaux solaires.
Un panneau solaire est par définition un ensemble de modules regroupés selon un
montage mixte, le module étant à son tour composé d’un ensemble de cellules montées
généralement en série. Il est possible d’utiliser un montage de NC cellules identiques
en série sur un module, NSP nombre de branche (placées en parallèle) et NMS nombre
de modules par branche (figure 2.8) [20].
La puissance totale disponible PT, dans ces conditions, est égale à :

PT  N MS .N SP .PM (2.10)

La résistance optimale est donnée par:

Ropt  (N MS / N SP ).Roptm (2.11)

Où Roptmest la résistance optimale du module dans les mêmes conditions.

29
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.8 Association mixte de NSP branches et de NMS module composés de NC

cellules identiques.

2.9 Hétérostructures
La production des cellules solaires provient de structures avec un seul semi-
conducteur, le silicium. Cela s’explique par l’avance technologique de ce matériau et
par sa relative simplicité de fabrication. Pourtant, si l’on veut améliorer les
performances électriques du composant tout en réduisant son coût de fabrication,
d’autres structures photovoltaïques doivent être imaginées. Plusieurs axes de recherche
sont explorés : silicium amorphe, hétérostructures avec des composés II-VI…Des
cellules solaires sur silicium polycristallin sont même commercialisées.
Une hétérostructure donne des rendements de conversion élevés. On l’obtient en
associant l’arséniure de gallium sous la forme de monocristal à un composé ternaire le
Ga1-xAlxAs. D’autres dispositifs sont aussi envisageables, à partir de composés tels que
le GaAs1-xPx, mais ceux qui aboutissent et sur lesquels l’essentiel des travaux de
recherche converge depuis plusieurs années sont élaborés avec le composé ternaire à
base d’aluminium.

2.9.1 Propriétés du Ga1-xAlxAs et principales structures photovoltaïques

Le semiconducteur Ga1-xAlxAs a une largeur de bande interdite plus élevée que celle
de l’arséniure de gallium. Les radiations d’énergie inférieure à la largeur de bande
interdite de ce matériau, mais supérieure à celle de l’arséniure de gallium, traversent la
couche et commencent seulement à être absorbées dans l’AsGa. Cette couche déposée
en surface joue le rôle ″d’effet fenêtre″ [15].
Dans les deux cas, l’interface entre les deux semiconducteurs doit présenter peu de
défauts, A cet égard, le composé ternaire Ga1-xAlxAs et l’arséniure de gallium se

30
Chapitre 2 Cellule solaire

combinent particulièrement bien. Les paramètres de réseau sont très voisins :

aAlAs=5.661 Å et aAlAs=5.653 Å.
On peut caractériser cette région par une vitesse de recombinaison. Pour une
composition en aluminium x=0.5 elle a été évaluée à 8.103 cm.s-1 , pour x=0.25 à 4.10 3
cm.s-1.
Nous constatons que ces matériaux ont un réseau cristallin aux propriétés favorisant
une croissance du semi-conducteur avec des dislocations d’interface réduites.

a b

Figure 2.9 Variation des largeurs de bande interdite directe et indirecte dans le Ga1
xAlxAs (300 K).

En faisant varier la composition xF (ou fraction molaire) du composé ternaire Ga1-

xAlxAs, on modifie la largeur de bande interdite. La figure 2.9 a montre les variations
de bande interdite en fonction de la fraction molaire. La transition est directe pour 0 <
xF < 0.4, la largeur de bande interdite croît de 1.43 eV à 1.9 eV. Le matériau passe à
une transition indirecte quand xF  0.4, la largeure de la bande interdite croit jusqu’à
2.17 eV pour xF  1.
Certains types de structures, combinant les matériaux AsGa et GaAlAs, se trouvent
représentés sur figure 2.10 par leur diagramme de bandes.

31
Chapitre 2 Cellule solaire

Considérons deux semi-conducteurs différents, isolés, représentés par leur diagramme

de bandes (figure 2.9 a). Quand une jonction est formée avec ces deux matériaux, les
porteurs se redistribuent de part et d’autre de l’interface. A l’équilibre
thermodynamique, le niveau de fermi reste le même, une région de charge d’espace se
constitue. Les différences d’énergie des bords de bandes, dans ces deux semi-
conducteurs, font apparaître des discontinuités d’énergie EC pour la bande de
conduction et EV pour la bande de valence.

C = 1  2 et ∆  V   1   G1   2   G 2 .
(2.12)

∆EC et ∆EV sont donc positifs ou négatifs selon les matériaux, ils ne dépendent que des
largeurs de bandes interdites respectives des semi-conducteurs en présence et de leur
affinité électronique ().
Dans une homojonction à l’équilibre, la tension de diffusion s’écrit :

1
Vd   G   C   F    F   V .
q (2.13)

Pour cette hétérojonction, la relation précédente devient :

1
Vd  Vd 1  Vd 2   G 2   V   C 2   F    F   V 1 . (2.14)
q

EC2-EF et EF-EV1 sont les différences entre le niveau de fermi et les bandes de
conduction et de valence, côtés N et P de la jonction. La tension de diffusion Vd peut
donc, selon le signe de la discontinuité d’énergie et le dopage entre les deux matériaux
être plus élevées que pour une simple homojonction de largeur de bande EG2, d’une
valeur égale à ∆EV (ou ∆EC). La figure 2.9 b représente le diagramme de bandes des
cellules solaires les plus utilisées.
Le diagramme de bandes de la figure 2.10 représente une structure à bande interdite
variable.

32
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.10 Diagramme de bandes cellules solaires. cas général d’une hétérojonction
PN(a). Hétérostructure PGaAs-NAsGa,(b) x fixe,(c) x variable .

Dans le cas du composé ternaire Ga1-xAlxAs, le coefficient d’absorption α change avec

la fraction molaire x. Le spectre d’absorption de ce composé suivant les valeurs de x
est représenté sur figure 2.11. Ces courbes données par plusieurs auteurs ont été
vérifiées expérimentalement. L’influence des transitions inter bandes indirectes sur les
variations des coefficients d’absorption est sensible à partir d’une composition en
aluminium supérieure à x = 0.6.

33
Chapitre 2 Cellule solaire

Figure 2.11 Spectre d’absorption du Ga1-xAlxAs

2.9.2 Equations de base

Dans une cellule solaire éclairée, les courants d’électrons et de trous sont
proportionnels au gradient de potentiel électrochimique représenté par les quasi-
niveaux de Fermi [15] :
d Fn
jn   n n .
dx (2.15)

d Fp
jp   p p .
dx (2.16)

En adoptant le diagramme d’énergie donné figure 2.12 :

E c     q  E v  E g
(2.17)

34
Chapitre 2 Cellule solaire

Energie de l’éléctron

0 -q


Ec
E Fn

EG
E Fp
EV

Figure 2.12 Diagramme d’énergie de l’électron

Les quasi-niveaux de fermi sont égaux à :

n
 Fn     q  k ln .
NC
(2.18)
Et
p
 Fp     q   G  k ln .
NV
Dans les hétérojonctions, les équations de transport prennent alors la forme :

 d k dn k dN C 
jn   n n   q    . (2.19)
 dx n dx N C dx 
et

 d d k dp k dN V 
j p   p p   q  G   . (2.20)
 dx dx p dx N V dx 

E est le champ électrique qui dérive du potentiel électrostatique (   d / dx ).

Les équations (2.19) et (2.20) peuvent s’exprimer sous une forme différente. En effet,
avec la relation d’Einstein (2.17) on peut écrire

35
Chapitre 2 Cellule solaire

 d k  dN C  dn (2.21)
j n   n n  q      qD n
 dx N C dx  dx

.
 d dEG k dNv  d
j p   p p q      qDp p . (2.22)
 dx dx N v dx  dx

2.9.3 Hétérostructure Ga1-xAlxAs-AsGa à effet fenêtre

Avec cette hétérostructure dont la couche avant (Ga1-xAlxAs) a une composition fixe
en aluminium. Le diagramme de bandes d’énergie de cette cellule solaire est donné sur
figure 2.10 b.

[Link] Contribution de la couche de Ga1-xAlxAs

x=0, à la surface la vitesse de recombinaison Sn1 engendre un courant de diffusion. On
écrit [15] :
dn1
D n1 ( x  0)  Sn1n1 (2.23)
dx

x=d1, on écrit que les densités de porteurs excédentaires de part et d’autre de cette
interface ne sont reliées que par la discontinuité d’énergie :

 C 
n1  n2 exp  . (2.24)
 k 

Plaçons-nous dans le cas où la composition en aluminium est élevée. Supposons, en

outre, que la discontinuité d’énergie constitue une barrière aux porteurs minoritaires
générés dans la couche PAsGa, en avant de la jonction métallurgique. La condition à
l’interface, dans la couche de Ga1-xAlxAs, se réduit alors à :
n1  0 pour x  d1 .
La densité de courant de court-circuit provenant de cette couche, avec les conditions
aux limites précédentes, à x=d1 devient :
n1
 C1  qDn1 ( x  d1 ) (2.25)
dx
Soit :

36
Chapitre 2 Cellule solaire

q1Ln1    1  R 

2
 C1    .
12 Ln12  1

 d 
 sh 1 
 1  S n 1 1  ch d1 exp  d   Ln 1 exp  d  
 
Dn 1 1 
1 1  1 1 

Ln 1   1 Ln 1  exp  1 d1  . (2.26)
 S n 1 Ln 1 d1 d1 
 sh  ch 
Dn 1 Ln 1 Ln 1
 
 
 

[Link] Contribution de la totalité de la couche avant (PGa1-xAlxAs-PAsGa)

x=d1, à l’interface de l’hétérostructure, dans la couche PAsGa, on considère que les

défauts donnent naissance à une vitesse de recombinaison Sn2 de telle sorte que [15] :

dn2 dn1
Dn 2 ( x  d 1)  S n 2 n2  Dn1 (2.27)
dx dx

x=d2, à la limite de la zone de charge d’espace n2  0 .

Dans ces conditions, la formulation générale de la densité de courant s’exprime par :

q  1  R  2 Ln 2  exp 1d1 
2

j n1    .
(  22 L2n 2  1 )
 d  d1 
 sh 2 
Sn 2  d 2  d1  L
1  1  exp  2 d 2  d 1 ch   n2
exp   2 d 2  d 1   exp  2 d 2  d 1  
 Dn 2 2  Ln 2   2 Ln 2 
 S L 
 n2 n2 d  d d  d 
sh 2 1
 ch 2 1
 Dn 2 Ln 2 Ln 2 
 
 
 C1  
 .
S n 2 Ln 2 d 2  d1 d  d1
sh  ch 2
Dn 2 Ln 2 Ln 2

(2.28)

37
Chapitre 2 Cellule solaire

[Link].1 Région de charge d’espace

On admet que la densité de courant ne dépend que du nombre de photons absorbés par
seconde, ainsi [15]:

jd    q  1  R  exp 1d1 1  exp  2 d  exp  2 d 2  d1  (2.29)

d : épaisseur de la zone de charge d’espace.

[Link].2 Région quasi neutre de type N

On calcule la densité de courant d’éclairement avec les conditions aux limites :
x=d2+d, à la limite de la zone de charge d’espace, la densité de porteurs en excès est
nulle  p  0 .

x=W, le contact arrière étant ohmique, la vitesse de recombinaison est considérée

comme infiniment grande.
En outre, en admettant que l’épaisseur de cette zone arrière (W-d2) soit suffisamment
grande pour que les conditions 1 /α2 et Lp<< W-d2 soient satisfaites, on peut alors
écrire [15]:

q  1  R   2 L p exp   1d1  exp   2 d 2  d1  d  (2.30)

j p   
 2 LP  1

[Link].3 Courant d’éclairement

La densité totale du courant d’éclairement en court-circuit, par longueur d’onde du
rayonnement incident, est égale à [15] :

J  t    j n 1    j p    j d  .
(2.31)

2.10 Conclusion
Dans ce chapitre, nous avons commencé par définir le rayonnement solaire. Après
nous avons donné le principe de fonctionnement d’une cellule solaire, ses
caractéristiques électriques et son schéma électrique équivalent ainsi que ses
paramètres. Nous avons aussi étudié analytiquement les hétérostructures et nous avons
donné les équations de base d’une hétérostructure Ga1-xAlxAs-AsGa.

38
 Chapitre 3
Logiciel TCAD-SILVACO
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

3.1 Introduction
Le logiciel TCAD (Technology Computer Aided Design)-SILVACO (SiliconValley
Corporation) est un ensemble complet d'outils permettant la simulation physique de
dispositifs et de systèmes électroniques tout en prenant en considération l’aspect
conception technologique à la simulation électrique.
Dans ce chapitre, nous présenterons le logiciel de simulation TCAD-SILVACO, son
principe de fonctionnement, et ces modules de simulation : ATHENA pour la
simulation des processus technologiques [21], et ATLAS [4] pour la simulation du
comportement électrique des composants.

3.2 Présentation du logiciel TCAD-SILVACO

Le logiciel TCAD-SILVACO est un ensemble d'outils permettant la simulation
physique des dispositifs et des systèmes électroniques. L'outil de calcul de ce logiciel
(ATLAS) résout des équations différentielles issues de la physique du composant
comme celles de la diffusion ou du transport pour des géométries discrètes. Deux
logiciels principaux composent généralement cet ensemble d'outils dédiés à la
simulation composant, à savoir, le simulateur du procédé de fabrication (ATHENA) et
le simulateur de composant (ATLAS). Le premier permet de simuler les étapes
d'implantation d'ions, de dépôt, de gravure, de recuit et d'oxydation. Le second permet
la simulation du comportement électrique d'un composant crée comme par exemple
une diode ou un transistor. Le composant est représenté comme une structure maillée
où chaque nœud a des propriétés qui lui sont associées telles que le type de matériau,
la concentration en dopant, etc. Ainsi, pour chaque nœud, la concentration de
porteurs, le champ électrique...; peuvent être calculés. Les électrodes sont
représentées par des surfaces sur lesquelles les conditions aux limites sont imposées,
comme par exemple, les tensions appliquées.

3.2.1 Logiciel ATHENA

Le logiciel de simulation ATHENA de TCAD-SILVACO fournit des possibilités
générales pour la simulation des processus utilisés dans l’industrie des semi-
conducteurs tels que la diffusion, l’oxydation, l’implantation ionique, la gravure, la
lithographie et les procédés de dépôt. Il permet des simulations rapides et précises de
toutes les étapes de fabrication utilisées dans la technologie CMOS, bipolaire, SOI,
optoélectronique, MEMS, et les composants de puissances. Là aussi, le logiciel

39
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

permet de fournir des informations importantes pour la conception et l'optimisation

des procédés technologiques telles que les concentrations des porteurs, les
profondeurs de jonctions, etc. Le programme de simulation (défini comme entrée) des
différentes étapes technologiques et les phénomènes physiques, s’établit avec le
module DECKBUILD de TCAD-SILVACO, puis la visualisation de la structure de
sortie s’effectue avec le module TONYPLOT [21] (fig. 3.1).

Figure 3.1 Schéma synoptique des modules utilisés dans la simulation par TCAD-
SILVACO

La figure 3.2 représente les entrées et sorties dans Athéna.

40
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

Figure 3.2 Les entrées et sorties du logiciel Athena.

 DEVEDIT
C’éditeur de structure et outil de maillage permettant de générer ou de modifier la
structure du dispositif à simuler. DEVEDIT peut être contrôlé par des lignes de
commande ou par un écran graphique interactif.

 DECKBUILD
C’est l’environnement où est défini le programme de simulation à travers des
commandes spécifiques. De multiples simulateurs considérés comme des entrées
peuvent être utilisés avec DECKBUILD : ATHENA, ATLAS, SSUPREM3, etc.
L’affichage des résultats de simulation tels que les paramètres technologiques
(profondeur de jonction, concentration des porteurs) et même les paramètres
électriques (tension de seuil, courant, etc.) est effectué à l’aide d’une fenêtre
d’information (output Windows).

 TONYPLOT
C’est l’environnement où sont visualisés les résultats des simulations. Il donne des
possibilités complètes pour la visualisation et l’analyse des caractéristiques de sortie
(structure du composant électronique, profil de dopage, et caractéristiques
électriques). Selon le programme de simulation, TONYPLOT peut donner des
caractéristiques de sortie en une dimension (1D), deux dimensions (2D), ou trois
dimensions (3D).

41
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

3.2.2 Logiciel ATLAS

Atlas est un simulateur 2D et 3D des dispositifs basés sur la physique de semi-
conducteurs. Il prédit le comportement électrique des structures semi-conductrices
spécifiées et fournit des aperçus de mécanismes physiques internes associés au
fonctionnement des dispositifs. ATLAS peut être utilisé autonome ou comme un outil
noyau dans le milieu de simulation VWF de SILVACO. Dans le but de prévoir
l'impact des variables du processus sur le comportement du circuit, la simulation du
dispositif joint la simulation du processus et l’extraction du modèle SPICE [4].

Figure 3.3 Entrées et sorties d’Atlas.

Dans le schéma de la figure 3.3 nous voyons les types d’informations qui circulent en
entrée et en sortie d’ATLAS. La plupart des simulations réalisées par ATLAS
utilisent deux fichiers d’entrée. Le premier fichier est un fichier script contenant les
commandes pour qu’ATLAS s’exécute (représente par Fichier de commande). Le
second fichier est un fichier de structure qui définit la structure qui va être simulée. A
la sortie d’ATLAS, nous avons trois types de fichiers. Le premier de ces fichiers est la
sortie "Runtime" qui donne la progression, les erreurs et les messages
d’avertissements pendant la simulation. Le deuxième type de fichier est le fichier
" log " qui stocke toutes les valeurs de tensions et des courants provenant de l’analyse
du dispositif simulé (c’est le fichier du comportement électrique). Le troisième fichier
de sortie est le Fichier de solution, ce fichier stocke les données 2D ou 3D concernant

42
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

les valeurs des variables solutions dans le dispositif en un point donné (c’est le fichier
physique, il contient la structure dans un état particulier). Les deux derniers fichiers
sont traités par l’outil de visualisation TONYPLOT.
ATLAS calcule les distributions internes des paramètres physiques et prédit le
comportement électrique des dispositifs en régime permanent ou transitoire. Il peut
donc
-simuler la distribution des potentiels, des champs électriques, des porteurs et des
courants;
- modéliser les courbes I-V et C-V, les réponses en alternatif et les caractéristiques en
régime transitoire;
La structure du dispositif à simuler peut être complètement arbitraire. Une fois celle-
ci réalisée, elle est découpée en éléments finis, formant ainsi ce qu’on appelle un
maillage. Le potentiel électrostatique et les concentrations de porteurs en fonction de
l’espace et du temps sont alors calculés à chaque nœud du maillage à partir des
équations de Poisson (3.1) et de continuité (3.2) et (3.3) [4].

q
div( grad )    p  n  N D  N A  (3.1)
 (3.1)
p 1 
  divJ p  G p  R p (3.2)
t q
(3.2)
n 1 
 divJ n  Gn  Rn (3.3)
t q ( (3.3)

où  est le potentiel électrique,  est la permittivité, n et p sont les concentrations

d’électrons et de trous, Jn et Jp sont les densités de courant des électrons et des trous,
Gn et Gp les taux de génération pour les électrons et les trous, Rn et Rp les taux de
recombinaisons pour les électrons et les trous et q la charge d’un électron. Ces trois
équations forment ainsi un système couplé. Le potentiel et les concentrations n et p
sont alors déterminés par des méthodes de calculs numériques tels que les algorithmes
de Newton ou de Gummel.
Deux autres outils de Tcad-Silvaco sont :

43
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

 UTMOST
Pour l’extraction de paramètres à partir des caractéristiques électriques, mesurées ou
simulées, pour SPICE.

 SMART-SPICE
C’est pour la simulation de circuit électrique (SPICE).

3.3 Logique de programmation

Après la présentation du logiciel TCAD-SILVACO, sa composition interne et le
fonctionnement d’ATLAS nous allons maintenant présenter l’ordre des commandes
propres à la logique de programmation d’ATLAS. Ainsi il existe cinq groupes de
commandes, ces groupes doivent être organises correctement (voir figure 3.4). Si
l’ordre n’est pas respecté, un message d’erreur apparait et le programme ne s’exécute
pas d’une façon correcte. Par exemple, si les paramètres ou les modèles de matériaux
ne sont pas placés dans l’ordre approprié, le simulateur ne les prend pas en
considération [4].

Figure 3.4 Ordre des groupes de commandes fondamentales dans le logiciel Atlas.

Les commandes fondamentales sont :

- MESH : cette commande génère un maillage ou lit un maillage qui a été défini
auparavant.

44
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

Exemple :

Figure 3.5 Maillage à deux dimensions (x,y).

Le format général de définition de maillage est:

[Link] LOCATION = <VALUE> SPACING = <VALUE>
[Link] LOCATION = <VALUE> SPACING = <VALUE>
La figure 3.5 est un exemple qui illustre le maillage d’une structure par le logiciel
Atlas.
La précision de la simulation dépend de l’état de la maille.
Un maillage épais produit une rapide simulation, mais les résultats sont moins précis.
Tandis qu’un maillage fin produit un ralentissement de la simulation, mais des
résultats plus précis.
Donc le maillage fin est plus intéressant de point de vue résultat dans la simulation.
-REGION : Après avoir défini le maillage, il est nécessaire de définir les régions dont
le format de définition des régions est le suivant:
REGION nombre = <integer> <material_type> < position des paramètres >

45
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

La figure 3.6 illustre le maillage et la definition des régions d’une structure par le
logiciel Atlas.

Figure 3.6 Maillage et définition des régions dans Atlas.

La figure (3.7) montre la façon de définition des matériaux pour chaque région.
Notons que le code de couleur indique le matériau. Les régions ont des lignes
verticales et horizontales pour marquer leurs limites.

Figures 3.7 Les régions et les matériaux.

46
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

-ELECTRODE : Atlas a une limite de 50 électrodes qui peuvent être définies. Le

format de définition d’électrodes est comme suit:
ELECTRODE NAME = < nom de l’électrode > < position des paramètres >
La figure (3.8) montre la position de l’anode et la cathode dans la structure.

Figure 3.8 Définition des électrodes.

- DOPING : Le dernier aspect de la spécification de la structure qui doit être défini est
le dopage.
Le format de la déclaration de dopage dans « Atlas » se présente comme suit:
DOPING < type de distribution > < type de dopant > < position des paramètres >
Dans la figure (3.9), les types de dopage et les niveaux de dopage sont définis. Le
dopage peut être de type N ou P. Le type de distribution peut être uniforme ou
gaussienne.

47
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

Figure 3.9 Distribution du dopage dans une structure.

-MATERIAL : Le format de la déclaration du matériau est le suivant :

MATERIAL < localisation > < définition du matériau >
Exemple :
Material Material = GaAs MUN = 8000 MUP = 150 TAUN0 = 3e-7 TAUP0 = 2e-5
Dans cet exemple, Material apparaît deux fois, le premier est considéré comme la
déclaration du matériau et le second est considéré comme un paramètre de
localisation.
Plusieurs autres paramètres peuvent être définis par la déclaration Material, comme
exemples de ces paramètres : la mobilité d'électrons (MUN) et la mobilité de trous
(MUP), (TAUN0) et (TAUP0) qui sont les durées de vie d’électrons et de trous
respectivement.
-MODELS : Les modèles physiques sont classés en cinq catégories:
Mobilités des porteurs de charges, mécanismes de génération-recombinaison, les
statistiques de transport, l’ionisation par impact et l’effet tunnel.
La syntaxe de la déclaration du modèle est la suivante:
MODEL< paramètres générales > < paramètres du modèle >
Le choix du modèle dépend des matériaux choisis pour la simulation.
Exemple : SRH FLDMOB CONMOB
SRH est le modèle de Shockley-Read-Hall.
CONMOB est le modèle dépendant de la concentration.

48
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

FLDMOB est le modèle dépendant du champ électrique parallèle.

- CONTACT : Le contact détermine les attributions des électrodes. La syntaxe du
contact est la suivante :
Contact NAME = < name >
Cette expression montre la déclaration « contact »,
Exemple :
CONTACT NAME = anode current
- INTERFACE : Les limites du semi-conducteur ou de l’isolant sont déterminées dans
la déclaration d'interface. La syntaxe est la suivante:
INTERFACE <parameters>
- METHOD : Après la précision du modèle de matériaux, la sélection de la méthode
numérique doit être indiquée. Parmi les différentes méthodes numériques de
résolution des systèmes d’équation, trois types de techniques sont utilisée dans
Silvaco-Atlas:
• Méthode de Gummel
• Méthode de Newton
• Méthode des blocs
L'exemple suivant illustre l'utilisation de la déclaration de méthode :
METHOD Newton
Dans cet exemple, les équations sont résolues par la méthode NEWTON.
- LOG : Log enregistre toutes les caractéristiques terminales dans un fichier de
données.
L'exemple suivant montre un exemple d’utilisation de l’instruction LOG.
LOG OUTFILE = [Link]
L'exemple montre l’enregistrement de données dans le fichier « [Link] ».
- SOLVE : L’instruction SOLVE suit l'instruction LOG. Elle effectue une solution
pour un ou plusieurs points de polarisation. Ce qui suit est un exemple de l'instruction
SOLVE.
SOLVE V2 = 0.8
SOLVE V2 = 0.9
- LOAD : L’instruction LOAD introduit, à partir d’un fichier existant, pour chaque
point de polarisation les solutions précédentes en tant que proposition initiale.

49
Chapitre 3 Logiciel TCAD-SILVACO

- SAVE : L’instruction SAVE permet l’enregistrement de toutes les informations

obtenues pour un nœud dans un fichier de sortie.
- EXTRACT : cette commande est utilisée pour extraire des valeurs de paramètres
bien précis du fichier log et du fichier solution.
- TONYPLOT : Les résultats et les informations obtenues par la simulation peuvent
être affichés graphiquement avec " TonyPlot " (exemple fig. 3.10).

Figure 3.10 Affichage graphique des résultats par " TonyPlot ".

3.4 Conclusion
Dans ce chapitre, nous avons présenté les modules de simulation ATHENA et
ATLAS du logiciel TCAD-SILVACO. Le deuxième module ATLAS est exploité
pour la simulation électrique de notre cellule solaire, son utilisation sera étendue à
l’étude de ses caractéristiques électriques telles que l'évolution du courant en fonction
de la tension, la puissance délivrée maximale, le rendement et la réponse spectrale.
Cette étude sera présentée par la suite dans le chapitre 4.

50
 Chapitre 4
Simulation numérique de la cellule
solaire et résultat de simulation
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

4.1 Introduction
Le logiciel de simulation Atlas est un simulateur de modélisation bidimensionnelle de
composants capable de prédire les caractéristiques électriques de la plupart des
composants semi-conducteurs.
Dans ce chapitre, nous allons exploiter ce logiciel pour la simulation électrique de la
cellule solaire. Cette simulation se base sur des modèles physiques intégrés dans le
logiciel.
Les performances d’une cellule solaire proviennent de l’étude de toutes les couches
formant la cellule solaire. La recherche des meilleurs paramètres de cellules dans les
différentes régions offrant les meilleures caractéristiques (I-V) de sortie des cellules
fait l’objet de ce chapitre.
A partir des caractéristiques (I-V), on peut déterminer les valeurs des facteurs
caractérisant les cellules tels que le courant de court-circuit Icc, la tension en circuit
ouvert Vco, le facteur de forme FF et le rendement η.

4.2 Paramètres électriques et modèles utilisés dans la simulation numérique

Les étapes de simulation d’une cellule solaire par le logiciel Silvaco-Atlas sont comme
suit :
 Définition de la structure (maillage, régions, électrodes, dopage).
 Définition des modèles (matériaux, modèles).
 Définition des modèles numériques (Les méthodes numériques pour la résolution
des équations).
 La solution
 Analyse des résultats (extraction, tracé des courbes).
Pour faire une simulation d’un dispositif il faut définir les paramètres des matériaux
employés dans la fabrication de ce dispositif tel que la structure de bande, la densité
des états, l’affinité, et ainsi de suite des paramètres utilisés pour n’importe quelles
simulation.
Notre cellule solaire a réalisée par les matériaux Al0.7Ga0.3As et GaAs, ses paramètres
sont définis dans Atlas [4] et sont groupés dans le tableau 4.1 :

51
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

Paramètre Désignation Valeur(Al0.3Ga0.7As) Valeur (GaAs)

Eg (eV) Gap d’énergie 1.8 1.42
Nc (par cc) Densité des états en Ec 4.35x1017 4.35x1017
Nv (par cc) Densité des états en Ev 8.16x1018 8.16x1018
r Permittivité relative 12.3 13.2
 (eV) Affinité électronique 4.07 4.07
µn(cm2/V.s) Mobilité des électrons 8000 8000
µp (cm2 /V.s) Mobilité des trous 400 400

Tableau 4.1 Les paramètres du Al0.7Ga0.3As et GaAs extraits d’Atlas [4].

L'exactitude des résultats de la simulation numérique dépend fortement du choix des

modèles physiques utilisés pour décrire le fonctionnement de la cellule solaire. Les
modèles que nous avons utilisés dans notre simulation sont décrits dans la
documentation Silvaco et dans la littérature et sont comme suit :
- Recombinaison Shockley Read Hall (srh): La dures de vie des électrons TAUN0 =
10-7 s et des trous TAUP0 =10-7 s [10, 22, 23].
-Recombinaison Auger (auger): les paramètres de ce modèle sont définis par défaut
dans Atlas, Les coefficients Auger pour les électrons AUGN=5x10-30 et pour les trous
AUGP=10-31.
-Recombinaison radiative (optr) : Ce processus est important dans les matériaux à
bande interdite directe comme notre matériau. Les paramètres de ce modèle sont
définis par défaut dans Atlas.
- Le modèle de recombinaison en surface. Les vitesses de recombinaison en surface
Sn = Sp = 6.106 cm/s [22].
L'illumination de la cellule solaire par le spectre solaire AM0 est définie par
l’instruction "beam" dans Atlas. Donc "beam" est utilisé pour simuler le photocourant
ou la réponse spectrale d’une cellule solaire. Pour utiliser cette instruction, il faut
définir son origine et son angle d'incidence. Nous avons choisi son origine au centre de
la cellule solaire et un angle de 90° qui signifie que l'incidence est normale à la face en
avant de la cellule solaire. Le paramètre "[Link]" dans Atlas permet de se pointer

52
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

vers un fichier externe sous forme d’un tableau contenant les valeurs de l’intensité de
la lumière en fonction de la longueur d’onde pour le spectre solaire AM0.
Dans le simulateur ATLAS, il y'a des méthodes numériques pour la résolution des
équations de transport des semi-conducteurs. Les trois techniques principales sont: la
méthode découplée de Gummel, la méthode couplée de Newton et la troisième
méthode est la combinaison des deux premières méthodes. Dans notre simulation, nous
avons utilisé la méthode de Newton, à chaque itération, le système des équations est
résolu ensemble. La taille des matrices du problème est relativement grande, et chaque
itération prend un temps relativement long. Cependant, l'itération convergera
rapidement à la solution à condition que les valeurs initiales de la solution soient
suffisamment près de la solution finale. La simulation électrique de la cellule solaire
démarre par une polarisation nulle sur toutes les électrodes (état de l'équilibre
thermodynamique). Une fois la solution de l'état de l'équilibre thermodynamique est
trouvée, elle est utilisée pour l'initialisation de l'état de la cellule polarisée et illuminée.
Une fois qu'une solution est obtenue, le courant traversant chaque électrode est calculé.
Des quantités internes, telles que les distributions des porteurs et le champ électrique
dans tout le dispositif sont aussi calculés pendant la simulation [14].

4.3 Résultats de simulation

4.3.1 Présentation de la cellule solaire
La structure à étudier est composée essentiellement d’une cellule de type p-n à base
de GaAs, qui est représenté sur la figure 4.1. Elle est constituée principalement d’une
couche fenêtre en Ga0.3Al0.7As fortement dopée de type p avec NA=2x1018 cm-3 et d’
épaisseur 0.03 µm, d’un émetteur de type p avec NA=3.4x1017 cm-3 et d’épaisseur 0.58
µm, d’une base de type n avec ND=3.4x1016cm-3et ayant la grande épaisseur 2.58 µm
et d’une couche BSF (Back Surface Field) de type n avec ND=3.8x1017 cm-3 et
d’épaisseur 0.4 µm, qui a pour rôle, la création d’un champ électrique retardeur en face
arrière, qui permet d’abaisser la recombinaison sur la face inferieure de la cellule
solaire, et par conséquent d’améliorer les caractéristiques électriques de la cellule. La
structure complète est illustrée sur la figure 4.1 (a). La figure 4.1 (b) est un
agrandissement de la figure 4.1 (a) pour montrer la couche Al0.3Ga0.7As située sur la
face supérieure de la cellule solaire.

53
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

(a) (b)

Figure 4.1 : (a) Structure complète de la cellule solaire, (b) Structure prés de face
supérieure de la cellule solaire.

4.3.2 Etude comparative entre la cellule solaire à homojonction (GaAs) et celle à

hétérojonction (Al0.7Ga0.3As/GaAs).
La simulation des caractéristiques électriques est sous éclairement solaire AM0 de
puissance incidente Pin=135 mW/cm2 (Fig. 4.2).

Figure 4.2 Irradiance en fonction de la longueur d’onde du spectre solaire AM0.

Pour montrer l’influence de la couche en Al0.7Ga0.3As déposée sur une cellule solaire
en GaAs, nous avons fait une étude comparative entre une première cellule solaire de
structure : p(GaAs)/n(GaAs)/n+(GaAs) (à homojonction) et une deuxième cellule
solaire de structure : p+(Al0.3Ga0.7As)/p(GaAs)/n(GaAs)/n+(GaAs) (à hétérojonction).

54
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

Les concentrations de dopage et les épaisseurs de ces deux cellules sont les mêmes
que celles indiquées dans le paragraphe 4.3.1. Sur le tableau 4.2, nous avons groupé les
paramètres photovoltaïques de ces deux cellules. On remarque que la cellule à
hétérojonction donne de meilleures grandeurs photovoltaïques par rapport à la cellule à
homojonction. On observe qu’il y’a une amélioration du courant de court-circuit (Icc),
la puissance (P) et du rendement de conversion (η). Le courant augmente de 11.53
mA/cm2 à 22.30 mA/cm2, la puissance de 8.73 mW/cm2 à 18.1 mW/cm2 et le
rendement de 6.47% à 13.46%. Cette valeur est en en très bon accord avec celle
trouvée expérimentalement (ηexp=13.45 % [24]).

Grandeurs photovoltaïques Cellule à hétérojonction Cellule à homojonction

Vco(V) 0.94 0.88
Icc (mA/cm2) 22.30 11.53
P (mW/cm2) 18.1 8.73
FF (%) 86.61 85.70
η (%) 13.46 6.47

Tableau 4.2 Grandeurs photovoltaïques des deux cellules solaires.

Sur la figures 4 .3 sont représentées les caractéristiques I(V) pour ces deux cellules,
nous constatons qu’il y’a une amélioration du courant de court-circuit et de la tension
en circuit ouvert pour la cellule avec une couche fenêtre en Al0.7Ga0.3As (cellule à
hétéjonction). La figure 4.4 représente les caractéristiques P(V) des deux cellules, on
remarque que pour la cellule avec une couche fenêtre, il y’a une augmentation de la
puissance maximale et la tension en circuit ouvert. La figure 4.5 montre la variation du
rendement quantique externe en fonction de la longueur d’onde de ces deux cellules,
nous constatons que dans toute la gamme de longueurs d’onde entre 0.1 µm et 0.86
µm, la cellule avec une couche fenêtre en Al0.7Ga0.3As a un meilleur rendement
quantique externe que celle de la cellule solaire sans couche fenêtre.

55
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

Figure 4.3 Caractéristiques I(V) de cellules solaires avec et sans couche fenêtre
Ga0.3Al0.7As.

Figure 4.4 Caractéristiques P(V) de cellules solaires avec et sans couche fenêtre
Ga0.3Al0.7As

56
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

Figure 4.5 Rendement quantique externe des cellules solaires avec et sans couche
fenêtre Ga0.3Al0.7As.

4.3.3 Influence des paramètres technologiques de la cellule solaire sur ses

paramètres photovoltaïques
[Link] Influence des paramètres de la base sur les performances de la cellule
Pour déterminer l’effet des paramètres technologiques (l’épaisseur et le dopage) sur les
caractéristiques électriques de la cellule solaire, nous choisissons d’étudier
premièrement les paramètres de la base du fait d’une part son importance dans la
détermination des caractéristiques électriques de la cellule et d’une autre part, au fait
que la base est la plus faiblement dopée (par rapport aux autres couches). Dans cette
optique, nous avons fixé tous les paramètres de la cellule et nous avons fait varier les
valeurs des deux paramètres de la base ND entre la gamme de 3.4x1014cm-3 à
3.4x1018cm-3 et l’épaisseur XB entre la gamme de 0.2 µm à 26 µm. Dans la figure 4.6
(a), nous avons reporté l’influence du dopage de la base et son épaisseur sur le courant
de court-circuit Icc. Nous déduisons que l’augmentation de l’épaisseur de la base
engendre une amélioration nette dans la densité du courant de court-circuit,
notamment pour les épaisseurs inférieures ou égales à 12 μm. Au-delà de 12 µm, le
courant Icc devient presque constant. Nous remarquons que le courant de court-circuit
Icc est inversement proportionnel aux valeurs croissantes du dopage de la base. Dans la
figure 4.6 (b), nous remarquons que la tension en circuit ouvert Vco est presque

57
 Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

constante avec l’augmentation de l’épaisseur de la base pour les concentrations de

dopage ND supérieures ou égales à 3.4x1016 cm-3. Pour les concentrations de dopage
inférieures ou égales à cette valeur, nous déduisons que la tension en circuit ouvert
diminue avec l’épaisseur et le dopage.

24 0.94
(a)
(b)
23 0.93
22 0.92
Icc (mA/cm 2)

21 0.91 ND=3.4x1014cm-3

Vco (V)
14
Nd=3.4x10 3.4x1015cm-3
20 Nd= 3.4x10 15 0.90 3.4x1016cm-3
3.4x1017cm-3
Nd=3.4x1016 0.89
19 3.4x1018cm-3
Nd=3.4x1017
18 0.88
Nd=3.4x1018
0.87
0 5 10 15 20 25 30
0 5 10 15 20 25 30
Epaisseur debase (µm)
Epaisseur de la base (µm)
160
(c) 14.0
140
(d)
120 13.5

100 13.0
Le rendement (%)

80
FF(%)

12.5
ND=3.4x1014cm-3 ND=3.4x1014cm-3
60 15 -3
12.0
ND=3.4x10 cm ND=3.4x1015cm-3
40 16
ND=3.4x10 cm -3
ND=3.4x1016cm-3
17 -3
11.5
ND=3.4x10 cm ND=3.4x1017cm-3
20 18 -3
ND=3.4x10 cm 11.0 ND=3.4x1018cm-3
0
0 5 10 15 20 25 30 0 5 10 15 20 25 30
Epaisseur de la base (µm) Epaisseur de la base (µm)

Figure 4.6 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de

l’épaisseur et le dopage de la base, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en
fonction de l’épaisseur et le dopage de la base, (c) Variation du facteur de forme en
fonction de l’épaisseur et le dopage de la base et (d) Variation du rendement de
conversion en fonction de l’épaisseur et le dopage de la base.

58
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

La figure 4.6 (c) présente l’influence du dopage de la base et son épaisseur sur le
facteur de forme, on remarque que le facteur de forme est presque constant avec
l’augmentation de la concentration du dopage et l’épaisseur de la base (FF= 86.9 %).
La figure 4.6 (d) montre le profil du rendement de conversion photovoltaïque en
fonction des paramètres de la base, le meilleur rendement trouvé est η=13,87% pour
un dopage ND=3.4x1016cm-3et une épaisseur XB=12 μm.
En fin, l’optimisation de la base est pour un dopage ND=3.4x1016 cm-3 et une épaisseur
XB=12 μm.

[Link] Influence des paramètres de l’émetteur sur les performances de la cellule

Pour étudier l’influence des paramètres de l’émetteur, nous avons pris une cellule
d’épaisseurs et de dopages fixes comme ceux indiqués dans le paragraphe 4.3.1 et nous
avons varié le dopage de l’émetteur (NA) dans la gamme entre 3.8x1017cm-3 à
3.8.x1019cm-3 et l’épaisseur (XE) entre la gamme de 0.1 µm à 1.0 µm. Dans la figure
4.7 (a), nous avons reporté l’influence du dopage de l’émetteur et son épaisseur sur le
courant de court-circuit Icc, on remarque que le courant de court-circuit décroit
rapidement avec l’augmentation de la concentration du dopage et de l’épaisseur. Dans
la figure 4.7 (b), nous avons reporté l’influence du dopage de l’émetteur et son
épaisseur sur la tension en circuit ouvert; nous remarque que l’épaisseur n’a pas
beaucoup d’influence sur Vco, nous déduisons que l’augmentation de la concentration
du dopage de l’émetteur engendre une légère amélioration dans la tension en circuit
ouvert. D’après la figure 4.7 (c), on remarque que le facteur de forme est presque
constant avec l’augmentation des deux paramètres et égale à 87%. Dans la figure 4.7
(d), le rendement photovoltaïque décroit rapidement avec l’augmentation de la
concentration du dopage et de l’épaisseur. De cette figure nous constatons que le
rendement prend sa valeur optimale pour un dopage de l’émetteur NA=3.8x1017cm-3 et
une épaisseur XE=0.1 μm.
En conclusion, l’optimisation de l’émetteur est pour un dopage NA=3.8x1017cm-3 et
une épaisseur XE=0.1 μm.

59
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

1.00
24 0.99 (b)
(a)
22 0.98
0.97
20
0.96
Icc (mA/cm 2)

18 0.95

Vco (V)
NA=3.8x1017cm-3 0.94
16 NA=7x1017cm-3 NA=3.8x1017
0.93 NA=7x1017
NA=3.8x1018cm-3
14 0.92 NA=3.8x1018
NA=7x1018cm-3
12 NA=3.8x1019cm-3
0.91 NA=7x1018

0.90 NA=3.8x1019
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0
Epaisseur de l'émetteur(µm) Epaisseur de l'emetteur (µm)

180
NA=3.8x1017cm-3 15
160 17 -3 (c) (d)
NA=7x10 cm 14
140 NA=3.8x1018cm-3
13
120 NA=7x1018cm-3
NA=3.8x1019cm-3 12
100
Rendement (%)
FF (%)

80 11
NA=3.8x1017cm-3
60 10 NA=7x1017cm-3

9 NA=3.8x1018cm-3
40
NA=7x1018cm-3
20 8
NA=3.8x1019cm-3
0 7
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0
Epaisseur de l'émetteur (µm) Epaisseur de l'émetteur (µm)

Figure 4.7 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de

l’épaisseur et le dopage de l’émetteur, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en
fonction de l’épaisseur et le dopage de l’émetteur, (c) Variation du facteur de forme en
fonction de l’épaisseur et le dopage de l’émetteur et (d) Variation du rendement de
conversion en fonction de l’épaisseur et le dopage de l’émetteur.

[Link] Influence des paramètres de la couche fenêtre sur les performances de la

cellule
Pour déterminer l’effet de l’épaisseur et le dopage de la couche fenêtre sur les
paramètres photovoltaïques de la cellule, nous faisons varier l’épaisseur de la couche
fenêtre dans la gamme entre 0 .1nm à 0.4μm et le dopage dans la gamme entre

60
 Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

2x1017cm-3 à 2x1021cm-3. Les paramètres des autres couches ont les mêmes valeurs que
précédemment (paragraphe 4.3.1).

26 (a) 0.99
(a) (b)
25 0.98
24 0.97
Icc (mA/cm 2)

23 0.96

Vco (V)
22 NA=2x1017cm-3 0.95 NA=2x1017cm-3
18 -3
NA=2x10 cm 0.94 NA=2x1018cm-3
21 19 -3
NA=2x10 cm NA=2x1019cm-3
20 0.93
NA=2x1020cm-3 NA=2x1020cm-3
21
NA=2x10 cm -3
0.92 NA=2x1021cm-3
19
0.91
0 10 20 30 40 0 10 20 30 40
Epaisseure de fenêtre(nm)
Epaisseur de la fenêtre(nm)

160 17
140 (c) (d)
16
120
15
100
Rendement (%)

80 14
FF(%)

NA=2x1017cm-3 NA=2x1017cm-3
60 NA=2x1018cm-3 13 NA=2x1018cm-3
19 -3
40 NA=2x10 cm NA=2x1019cm-3
NA=2x1020cm-3 12 NA=2x1020cm-3
20 21 -3
NA=2x10 cm NA=2x1021cm-3
0 11
0 10 20 30 40
0 10 20 30 40
Epaisseur de la fenêtre(nm)
Epaisseur de la fenêtre (nm)

Figure 4.8 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de

l’épaisseur et le dopage de la fenêtre, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en
fonction de l’épaisseur et le dopage de la fenêtre,(c) Variation du facteur de forme en
fonction de l’épaisseur et le dopage de la fenêtre et (d) Variation du rendement de
conversion en fonction de l’épaisseur et le dopage de la fenêtre.

La figure 4.8 (a) représente la variation du courant de court-circuit Icc de la cellule

solaire en fonction de l’épaisseur et le dopage de la couche fenêtre. On remarque que

61
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

le courant de court-circuit est presque constant avec le dopage et les épaisseurs entre la
gamme de 0.1 nm à 15 nm. Ensuite, il décroit rapidement dans la gamme entre 15 nm
et 40 nm. Nous remarquons aussi une amélioration nette de la densité du courant de
court-circuit avec l’augmentation de la concentration du dopage de la couche fenêtre
dans cette gamme d’épaisseurs. La figure 4.8 (b) représente la tension en circuit
ouvert Vco de la cellule solaire en fonction de l’épaisseur et le dopage la couche
fenêtre, on remarque que la tension en circuit ouvert est presque constante avec le
dopage et l’épaisseur dans la gamme de 0.1 nm et 15 nm. Après cela, il décroit
rapidement dans la gamme entre 15 nm à 40 nm. Nous remarquons une amélioration
nette de la tension en circuit ouvert avec l’augmentation de la concentration du dopage
de la couche fenêtre dans cette gamme d’épaisseurs. La figure 4.8 (c) présente
l’influence du dopage de la fenêtre et son épaisseur sur le facteur de forme, on
remarque que le facteur de forme est presque constant avec l’augmentation de
concentration du dopage et l’épaisseur de la couche fenêtre et égal à 86.95%. La
figure 4.8 (d) représente le rendement photovoltaïque de la cellule solaire en fonction
de l’épaisseur et le dopage la couche fenêtre. On remarque que le rendement
photovoltaïque est presque constant avec le dopage et l’épaisseur entre la gamme de
0.1 nm à 15 nm. Après, il décroit rapidement dans la gamme entre 15 nm à 40 nm.
Nous remarquons une amélioration nette du rendement photovoltaïque avec
l’augmentation de la concentration du dopage de la couche fenêtre dans cette gamme
d’épaisseurs.
En fin, l’optimisation de la couche fenêtre est pour un dopage NA=2x1018 cm-3 et une
épaisseur XA=0.1 nm.

[Link] Influence des paramètres de la couche BSF sur les performances de la

cellule
Nous avons pris les mêmes paramètres de la cellule et nous avons fait varier les
valeurs des deux paramètres (dopage, épaisseur) du BSF telles que NA est dans la
gamme de 3.12x1017cm-3 et 3.12x1021cm-3 et l’épaisseur XBSF dans l’intervalle entre
0.15 µm et 1.6 µm. D’après la figure 4.9 (a), nous déduisons que l’augmentation des
deux paramètres (l’épaisseur et la concentration du dopage) de la couche BSF
engendre une légère amélioration dans le courant de court-circuit.

62
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

23.5 0.946
0.945
(a) (b)
23.0 0.944
0.943
22.5 0.942
)
2

Vco (V)
Icc (mA/cm

0.941
22.0 0.940
ND=3.12x1017cm-3 ND=3.12x1017
18 -3
ND=3.12x10 cm 0.939 ND=3.12x1018
21.5 19
ND=3.12x10 cm -3
0.938 ND=3.12x1019
20 -3
ND=3.12x10 cm ND=3.12x1020
0.937
21.0
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6
Epaisseur de BSF(µm) Epaisseur de BSF(µm)

160 14.0
(c) (d)
140
13.8
120
100 13.6
Rendement (%)

80
FF (%)

13.4
60 17 -3 ND=3.12x1017cm-3
ND=3.12x10 cm
40 ND=3.12x1018cm-3
ND=3.12x1018cm-3 13.2
ND=3.12x1019cm-3
20 ND=3.12x1019cm-3
ND=3.12x1020
ND=3.12x1020cm-3
0 13.0
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6

Epaisseur de BSF(µm) Epaisseur de BSF(µm)

Figure 4.9 (a) Variation du courant de court-circuit en fonction de

l’épaisseur et le dopage du BSF, (b) Variation de la tension en circuit ouvert en
fonction de l’épaisseur et le dopage du BSF, (c) Variation du facteur de forme en
fonction de l’épaisseur et le dopage du BSF et (d) Variation du rendement de
conversion en fonction de l’épaisseur et le dopage du BSF.

Dans la figure 4.9 (b), nous remarquons que l’augmentation de l’épaisseur et la

concentration du dopage de la couche BSF entraine une légère amélioration dans la

63
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

tension en circuit ouvert. La figure 4.9 (c) présente l’influence du dopage de BSF et
son épaisseur sur le facteur de forme, on remarque que le facteur de forme est presque
constant avec l’augmentation de concentration du dopage et l’épaisseur de BSF et
égale à 86.85%. Dans la figure 4.9 (d), nous déduisons que l’augmentation des deux
paramètres (l’épaisseur et la concentration du dopage) de la couche BSF mène à une
légère amélioration dans le rendement photovoltaïque.
Comme conclusion, l’optimisation du BSF est pour un dopage et une épaisseur:
ND=3.12x1019 cm-3, XA=0.15 µm
D’après cette étude, nous avons abouti à une cellule solaire donnant les meilleurs
paramètres photovoltaïques : Icc=25.90 mA/cm2, Vco=0.98 V, FF=86.98 % et
η =16.49 % pour une structure à hétérojonction telle que la fenêtre a une épaisseur de
0.1 nm et un dopage de 1017 cm-3. Les paramètres de sa structure sont groupés dans le
tableau suivant.

Structure de la cellule Concentration de dopage Epaisseur

La fenêtre 2x1017cm-3 0.1 nm
L’émetteur 3.4x1017 cm-3 0.58 µm
La base 3.4x1016cm-3 2.58 µm
Le BSF 3.8x1017 cm-3 0.4 µm

Tableau 4.3 Les paramètres technologiques d’une cellule solaire à hétérojonction

donnant le meilleur rendement.

4.4 Conclusion
Dans ce chapitre, nous avons utilisé l’outil Atlas du logiciel Silvaco pour l’étude du
comportement électrique de notre cellule solaire à base de GaAs à homojonction et à
hétérojonction (Ga0.3Al0.7As/GaAs).
Afin de visualiser l’importance de la couche fenêtre Ga0.3Al0.7As dans les cellules
solaires au GaAs, on a fait une étude comparative entre deux cellules, avec et sans
couche fenêtre. Nous avons trouvé que la cellule avec couche fenêtre donne de
meilleurs résultats par rapport à celle sans couche fenê[Link] avons aussi essayé de
trouver les meilleurs paramètres (épaisseur, dopage) de chaque région de la cellule
donnant les meilleures caractéristiques photovoltaïques.

64
Chapitre 4 Simulation numérique de la cellule solaire et résultats de simulation

65
Conclusion générale
 Conclusion générale

Conclusion générale

Dans ce travail de mémoire, nous avons étudié par simulation numérique une cellule
solaire à base de GaAs de structure p-n-n+ avec une couche fenêtre en Al0.3Ga0.7As de
type p+ pour mieux comprendre les différents mécanismes physiques qui se
produisent au sein de la cellule solaire.
Dans le premier chapitre, nous avons donné les notions fondamentales sur les semi-
conducteurs nécessaires à la compréhension du fonctionnement de la cellule solaire à
base de GaAs. Dans le deuxième chapitre, nous avons rappelé quelques notions de
base relatives au rayonnement solaire, le principe de fonctionnement, les
caractéristiques électriques, la réponse spectrale, le rendement de conversion des
cellules à base de GaAs et les équations de base décrivant les modèles analytiques
d’une cellule solaire. Dans le troisième chapitre, nous avons présenté l’outil ATLAS
du logiciel TCAD-SILVACO pour la simulation numérique à deux dimensions des
dispositifs photovoltaïques. Il est basé sur la résolution des équations de continuité
des électrons et des trous et l’équation de Poisson. L’introduction des paramètres
représentatifs des différentes couches ou des différentes structures permet une
simulation des caractéristiques photovoltaïques du dispositif. Pour simuler les
caractéristiques électriques d’une cellule solaire par ATLAS, nous commençons par
la définition de la structure de la cellule en spécifiant le maillage, les régions, les
électrodes et le dopage. Après cela, vient l’étape de la définition des modèles
physiques décrivant le fonctionnement d’une cellule solaire. Dans le quatrième
chapitre, nous avons décrit la structure de la cellule solaire et nous avons présenté les
résultats de simulation par l’outil Atlas. Nous avons examiné l’effet de la couche
fenêtre, nous avons trouvé que cette couche améliore le rendement, il passe de 6,47%
dans une celle sans couche fenêtre à 13.46% pour une cellule avec couche fenêtre en
Al0.3Ga0.7As.
Nous avons aussi réalisé une étude des paramètres technologiques (épaisseur, dopage)
de toutes les couches de la cellule à hétérojonction (fenêtre, émetteur, Base, BSF) sur
les caractéristiques électriques de la cellule solaire.
D’après cette étude, nous avons abouti à une cellule solaire donnant les meilleurs
paramètres photovoltaïques : Icc=25.90 mA/cm2, Vco=0.98 V, FF=86.98 % et

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 Conclusion générale

η =16.49 % pour une structure à hétérojonction telle que la fenêtre a une épaisseur de
0.1 nm et un dopage de 1017 cm-3. Les paramètres de sa structure sont groupés dans le
tableau suivant.

Structure de la cellule Concentration de dopage Epaisseur

La fenêtre 2x1017cm-3 0.1 nm
L’émetteur 3.4x1017 cm-3 0.58 µm
La base 3.4x1016cm-3 2.58 µm
Le BSF 3.8x1017 cm-3 0.4 µm

Tableau 1 Les paramètres technologiques d’une cellule solaire à hétérojonction

donnant le meilleur rendement.

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Références
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